Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9262650 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP est un outil de pointe de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma utilisé pour le dépôt de couches minces. Il est conçu pour fournir une uniformité supérieure de couverture sur une variété de formes et de tailles de substrat. Le réacteur MxP est constitué d'une chambre à vide, d'un ensemble d'électrodes et d'une alimentation RF. La chambre à vide est conçue pour être étanche, permettant le dépôt de couches minces de haute qualité avec une contamination minimale. La chambre est munie d'un revêtement résistant aux hautes températures (HTR) pour éviter les dommages à l'intérieur. L'ensemble d'électrodes comprend deux électrodes planes avec des réglages réglables de tension et de courant, permettant d'affiner les paramètres de traitement. L'alimentation RF comprend une fréquence réglable, permettant des taux de dépôt élevés. Le réacteur MxP est à la fois flexible et fiable, ce qui le rend bien adapté à une variété de tâches de dépôt en couches minces de haute précision. Le réacteur MxP est capable de déposer un large éventail de matériaux, dont le silicium, le silicium polycristallin, le nitrure de silicium et l'arséniure de gallium. Les performances thermiques du réacteur sont également excellentes, avec des capacités de régulation de température précises assurant des vitesses de dépôt uniformes sur des substrats de formes et de tailles diverses. Le réacteur MxP présente également une bonne sélectivité en gravure de plasma, permettant d'éliminer uniformément différents matériaux du substrat sans endommager la structure globale. La sélectivité en gravure plasma du MxP Reator est encore améliorée grâce à son équipement de nettoyage de chambre facile à utiliser et à son système de sublimation du gaz à deux canaux. Le design robuste du réacteur MxP se distingue également, avec une chambre intérieure en acier inoxydable et une enveloppe extérieure en alliage d'aluminium. Cela permet une unité légère et robuste, capable de fonctionner pendant de longues durées avec un minimum d'entretien. Le réacteur MxP dispose également d'un écran d'affichage pratique, qui fournit des informations claires et faciles à lire sur la température, les pressions et les conditions de traitement dans la chambre. L'unité de surveillance pratique permet aux opérateurs de suivre la performance globale en temps réel, leur donnant la confiance nécessaire pour effectuer des tâches de dépôt en couches minces de haute précision. En conclusion, AMAT Centura MxP Reactor est une machine PECVD fiable et polyvalente qui convient bien pour le dépôt de couches minces sur divers substrats. Il offre d'excellentes performances thermiques et une sélectivité de gravure plasma, ainsi qu'une conception robuste pour un fonctionnement à long terme sans nécessiter un entretien excessif. L'écran d'affichage pratique permet aux opérateurs de surveiller la performance globale en temps réel, offrant un contrôle total sur le processus de dépôt.