Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9293856 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur de dépôt chimique en phase vapeur amélioré Centura MxP + Plasma (PECVD) est un équipement de dépôt avancé à l'échelle de la production conçu pour permettre le dépôt à haute vitesse et à basse température de films ultra-minces. Ce système est spécialement conçu pour la production de composants optoélectroniques performants et d'autres applications nécessitant un dépôt rapide à basse température. L'unité PECVD se compose d'une chambre de réacteur, d'une source de plasma indépendante et d'une gamme de contrôleurs pour contrôler la recette du procédé. A l'intérieur de la chambre, le plasma est produit en appliquant une alimentation haute fréquence à une paire d'électrodes céramiques, créant un environnement haute température et haute pression. Cet environnement est alors utilisé pour générer des réactifs chimiques qui interagissent chimiquement et thermiquement les uns avec les autres, formant un film mince sur la surface exposée du substrat. AMAT Centura MxP + dispose d'une machine de refroidissement avancée, permettant un refroidissement rapide de la chambre de procédé et du substrat. Avec l'outil de refroidissement, les températures peuvent être maintenues et ajustées pour répondre aux exigences spécifiques de chaque procédé de dépôt. De plus, l'actif dispose d'une gamme de contrôleurs pour contrôler divers aspects du processus de dépôt, tels que la pression de fonctionnement, les niveaux de puissance et la température du film. La combinaison de ces caractéristiques permet au modèle d'atteindre des vitesses de dépôt allant jusqu'à 200 nm par minute. En termes de capacités de procédé, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura MxP + peut déposer à des températures aussi basses que 50 ° C des films métalliques et d'oxyde métallique, ainsi que des matériaux organiques et diélectriques Cela permet la production de composants optoélectroniques haute performance sans nécessiter de températures élevées, ce qui rend l'équipement idéal pour des applications incluant la production de films ultra-minces pour les cellules solaires, les écrans OLED, et d'autres applications. Centura MxP + dispose également d'une source de magnétron planaire intégrée pour produire de l'azote, de l'hélium et d'autres espèces plasmatiques pour des applications nécessitant des processus de gravure, de cendrage et de dépôt à haut débit. En outre, le système comprend une unité de surveillance avancée et de collecte de données, offrant aux utilisateurs une vue détaillée de l'ensemble du processus, ainsi que des résultats finaux après traitement. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + est une machine PECVD robuste et avancée qui offre une solution unique pour la production de composants optoélectroniques de haute performance, de cellules solaires, d'écrans OLED et d'autres applications. Avec sa gamme de capacités de processus, ses contrôleurs avancés et sa source magnétron intégrée, AMAT Centura MxP + offre aux utilisateurs une option puissante et rentable pour les processus de dépôt à base de plasma.