Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9351620 à vendre en France

ID: 9351620
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Poly etcher, 8" Wafer shape: SNNF (Notch) Type: Centura 1 P-2 No SMIF interface Chamber A, B, C and D: MxP+ Buff robot type: HP Loadlock: Wide body Metal buff robot blade Water detector: Alarm Wafer sensor: Standard Smoke detector: Alarm EMO AC Rack: Single phase Monitor and EDP monitor: Standalone Controller rack: Single phase Umbilical cables: Controller to mainframe: 25 ft Controller to AC rack: 25 ft RF to chamber coaxial: 50 ft Pump interface cable: 50 ft Chamber A: Chamber type: MxP+ ESC Type: Polymide IHC Type: MKS 640 Manometer type: 1 Torr Lid type: Clamp Slit valve O-ring: Viton Bias RF match: Standard OEM 12B RF Generator No autobias End point: Monochromator SEIKO SEIKI 301 Turbo pump Magnet driver Simply cathode Butterfly throttle valve VAT Gate valve Standard process kit Chamber B, C and D: Chamber type: MxP+ IHC Type: MKS640 Manometer type: 1 Torr Lid type: Clamp Slit valve O-ring: Viton Bias RF match: Standard OEM 12B RF Generator No autobias End point: Monochromator SEIKO SEIKI 301 Turbo pump Magnet driver Simply cathode Throttle valve: Butterfly VAT Gate valve Gases: Chamber A and B: Gas / Name / MFC Size / Make / Model Gas 1 / CL2 / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 2 / HBR / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 3 / N2 / 20 / STEC / SEC-4400MC Gas 4 / CF4 / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 5 / O2 / 10 / STEC / SEC-4400MC Gas 6 / O2 / 100 / STEC / SEC-4400MC Gas delivery: MFC Maker: STEC MKS Transducer display NIPPON SEISEN Mykrolis Filter Regulator: Veriflo MKS Transducer FUJIKIN Valve Gas connection: Multiline drop Chiller: Chiller valve connections: Manifold Generator rack valve connection: Manifold Chiller hose size: 3/8 Quick Valve connection: Wall: Chamber A, B and C Cathode: Chamber A, B and C Power supply: 208 V, 400 A, 60 Hz 1997 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura MxP + est un réacteur haute performance conçu pour faciliter la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, tels que transistors, diodes et résistances, dans la fabrication de circuits intégrés. Ce réacteur est idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent un traitement à haute température et un contrôle précis du débit de gaz, de la pression et de la température. Le réacteur dispose d'un équipement breveté de distribution directe de gaz à haut rendement (HEDGDS) qui permet une distribution uniforme du gaz et un contrôle de la pression sur l'ensemble de la chambre. Ce système élimine le besoin de pompes à gaz manuelles et permet un contrôle précis des flux de gaz et de la pression. Le HEDGDS ne nécessite pas de conduites de gaz ou de connexions externes, ce qui facilite l'installation et le fonctionnement du réacteur. La température interne du réacteur peut être réglée entre 25 ° C et 1000 ° C avec une précision de 0,1 ° C Cela permet un contrôle de température optimisé pour garantir des résultats de processus précis et une gestion efficace du flux de travail. De plus, le MxP + comprend une unité d'impulsions électriques basse pression qui élimine le besoin de pompes à vide manuelles. La machine à impulsions électriques est également capable de maintenir une pression constante dans la chambre afin de minimiser la percée des gaz lors des applications du procédé. Le réacteur dispose également d'un outil avancé de protection du flux gazeux biphasique qui prévient efficacement la contamination du flux gazeux. Cet atout utilise un séparateur de flux dynamique qui maximise l'uniformité du flux de gaz tout en évitant la contamination croisée des gaz de procédé et des gaz porteurs. Le modèle dispose également d'un équipement de contrôle du gaz actif qui surveille constamment la pression de la chambre et ajuste automatiquement le débit du gaz porteur pour assurer la répétabilité du processus. Le réacteur est également équipé de capteurs de température et d'un contrôleur logique programmable (PLC) qui permettent un contrôle précis de la température et une surveillance automatisée des processus. Ce système de contrôle PLC est également capable d'exécuter une séquence d'événements complexes assurant une qualité de processus et une efficacité optimales. Le réacteur offre également une variété de caractéristiques supplémentaires, telles qu'une alimentation électrique à commutation et un chauffage par induction flexible qui permettent de contrôler davantage le processus de fabrication des semi-conducteurs. En outre, ce réacteur est également classé ETL et certifié RoHS, assurant qu'il satisfait ou dépasse les normes de sécurité de l'industrie des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, le réacteur MxP + d'AMAT Centura est une solution avancée de fabrication de semi-conducteurs conçue pour fournir des résultats fiables et cohérents tout en rationalisant les opérations de fabrication.
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