Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9351620 à vendre en France
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ID: 9351620
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Poly etcher, 8"
Wafer shape: SNNF (Notch)
Type: Centura 1 P-2
No SMIF interface
Chamber A, B, C and D: MxP+
Buff robot type: HP
Loadlock: Wide body
Metal buff robot blade
Water detector: Alarm
Wafer sensor: Standard
Smoke detector: Alarm
EMO
AC Rack: Single phase
Monitor and EDP monitor: Standalone
Controller rack: Single phase
Umbilical cables:
Controller to mainframe: 25 ft
Controller to AC rack: 25 ft
RF to chamber coaxial: 50 ft
Pump interface cable: 50 ft
Chamber A:
Chamber type: MxP+
ESC Type: Polymide
IHC Type: MKS 640
Manometer type: 1 Torr
Lid type: Clamp
Slit valve O-ring: Viton
Bias RF match: Standard
OEM 12B RF Generator
No autobias
End point: Monochromator
SEIKO SEIKI 301 Turbo pump
Magnet driver
Simply cathode
Butterfly throttle valve
VAT Gate valve
Standard process kit
Chamber B, C and D:
Chamber type: MxP+
IHC Type: MKS640
Manometer type: 1 Torr
Lid type: Clamp
Slit valve O-ring: Viton
Bias RF match: Standard
OEM 12B RF Generator
No autobias
End point: Monochromator
SEIKO SEIKI 301 Turbo pump
Magnet driver
Simply cathode
Throttle valve: Butterfly
VAT Gate valve
Gases:
Chamber A and B:
Gas / Name / MFC Size / Make / Model
Gas 1 / CL2 / 200 / STEC / SEC-4400MC
Gas 2 / HBR / 200 / STEC / SEC-4400MC
Gas 3 / N2 / 20 / STEC / SEC-4400MC
Gas 4 / CF4 / 200 / STEC / SEC-4400MC
Gas 5 / O2 / 10 / STEC / SEC-4400MC
Gas 6 / O2 / 100 / STEC / SEC-4400MC
Gas delivery:
MFC Maker: STEC
MKS Transducer display
NIPPON SEISEN Mykrolis Filter
Regulator: Veriflo
MKS Transducer
FUJIKIN Valve
Gas connection: Multiline drop
Chiller:
Chiller valve connections: Manifold
Generator rack valve connection: Manifold
Chiller hose size: 3/8 Quick
Valve connection:
Wall: Chamber A, B and C
Cathode: Chamber A, B and C
Power supply: 208 V, 400 A, 60 Hz
1997 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura MxP + est un réacteur haute performance conçu pour faciliter la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, tels que transistors, diodes et résistances, dans la fabrication de circuits intégrés. Ce réacteur est idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent un traitement à haute température et un contrôle précis du débit de gaz, de la pression et de la température. Le réacteur dispose d'un équipement breveté de distribution directe de gaz à haut rendement (HEDGDS) qui permet une distribution uniforme du gaz et un contrôle de la pression sur l'ensemble de la chambre. Ce système élimine le besoin de pompes à gaz manuelles et permet un contrôle précis des flux de gaz et de la pression. Le HEDGDS ne nécessite pas de conduites de gaz ou de connexions externes, ce qui facilite l'installation et le fonctionnement du réacteur. La température interne du réacteur peut être réglée entre 25 ° C et 1000 ° C avec une précision de 0,1 ° C Cela permet un contrôle de température optimisé pour garantir des résultats de processus précis et une gestion efficace du flux de travail. De plus, le MxP + comprend une unité d'impulsions électriques basse pression qui élimine le besoin de pompes à vide manuelles. La machine à impulsions électriques est également capable de maintenir une pression constante dans la chambre afin de minimiser la percée des gaz lors des applications du procédé. Le réacteur dispose également d'un outil avancé de protection du flux gazeux biphasique qui prévient efficacement la contamination du flux gazeux. Cet atout utilise un séparateur de flux dynamique qui maximise l'uniformité du flux de gaz tout en évitant la contamination croisée des gaz de procédé et des gaz porteurs. Le modèle dispose également d'un équipement de contrôle du gaz actif qui surveille constamment la pression de la chambre et ajuste automatiquement le débit du gaz porteur pour assurer la répétabilité du processus. Le réacteur est également équipé de capteurs de température et d'un contrôleur logique programmable (PLC) qui permettent un contrôle précis de la température et une surveillance automatisée des processus. Ce système de contrôle PLC est également capable d'exécuter une séquence d'événements complexes assurant une qualité de processus et une efficacité optimales. Le réacteur offre également une variété de caractéristiques supplémentaires, telles qu'une alimentation électrique à commutation et un chauffage par induction flexible qui permettent de contrôler davantage le processus de fabrication des semi-conducteurs. En outre, ce réacteur est également classé ETL et certifié RoHS, assurant qu'il satisfait ou dépasse les normes de sécurité de l'industrie des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, le réacteur MxP + d'AMAT Centura est une solution avancée de fabrication de semi-conducteurs conçue pour fournir des résultats fiables et cohérents tout en rationalisant les opérations de fabrication.
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