Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura P5000 #293651591 à vendre en France

ID: 293651591
CVD System Control rack AC Rack.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura P5000 est un équipement à basse pression, à réacteur multiple, à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la production de matériaux de revêtement de couches minces supérieures pour des structures de dispositifs avancées, ainsi que des couches diélectriques, de passivation, d'adhérence et de barrière. Ce réacteur polyvalent offre un débit élevé et une excellente uniformité pour les étapes critiques du procédé telles que le dépôt en phase vapeur et le recuit post-revêtement dans une large gamme d'applications de procédés semi-conducteurs. Le système comprend plusieurs chambres de traitement principales et jusqu'à quatre chambres de traitement supplémentaires pour les fonctions de pré-nettoyage, gravure et post-traitement du substrat. La chambre de procédé principale comporte deux sources de procédé primaires, typiquement deux porte-pulvérisateurs, qui permettent le dépôt d'une ou plusieurs couches de matériaux tels que le nitrure de silicium, l'oxyde de silicium, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde de tantale, le nitrure d'aluminium, le carbure de silicium et d'autres matériaux barrières. Le porte-suscepteur est conçu pour permettre un réglage in situ de la température, de la pression, de la puissance et de la vitesse de dépôt. Ceci permet une plus grande souplesse dans l'affinement des paramètres d'application et assure l'uniformité des matériaux déposés. Les chambres de procédés primaires peuvent accueillir des substrats jusqu'à 30 cm entre la source et le substrat. L'unité d'imagerie de pointe avec rétroaction en boucle fermée fournit une imagerie en temps réel pour permettre un contrôle de couche de précision. Le réacteur AMAT Centura P5000 peut être utilisé pour diverses applications semi-conductrices telles que le diélectrique de grille, la passivation, la barrière de contact, l'adhérence et le dépôt de couches minces diélectriques. La machine est également bien adaptée pour l'isolation de tranchées peu profondes, la formation de jonctions ultra-peu profondes, le dépôt et le recuit de haut k, la formation de contacts siliciuriques, l'adhésion et le conditionnement de surface, et d'autres fonctions de post-traitement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura P5000 offre de nombreux avantages dans la fabrication de semi-conducteurs, notamment un débit élevé, un meilleur contrôle des procédés et une excellente uniformité. L'outil est également livré avec plusieurs fonctionnalités conviviales telles que le loadlock à grande vitesse, la télécommande automatisée, et des recettes de processus simples, permettant un meilleur contrôle et la flexibilité pour répondre aux besoins des clients.
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