Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293625549 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD
ID: 293625549
Taille de la plaquette: 8"
Sputtering system, 8".
AMAT AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PVD Centura est un équipement de dépôt physique en phase vapeur (PVD) de haute précision et haute performance. Le réacteur est conçu pour traiter des couches de couches minces sur des substrats, tels que des produits semi-conducteurs, à des taux de dépôt élevés et à de basses températures de substrat. Le système est capable de déposer une variété de matériaux, y compris des nitrures métalliques, des oxydes métalliques et du silicium polycristallin. L'unité dispose d'une chambre à quartz à paroi chaude avec une taille de 10,2 pouces et une pression de base de 100 Torr. La chambre du réacteur comporte également un filament noyé pour le dépôt de couches minces métalliques. La machine à débit de gaz intégrée est conçue pour une distribution uniforme du gaz, un contrôle précis des débits et la délivrance de doses précises de gaz de dépôt. Le réacteur est alimenté par un échangeur de chaleur breveté, qui utilise trois canaux d'écoulement d'air avec un rendement thermique élevé pour maintenir des températures de processus précises tout en minimisant la consommation d'énergie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS/AMAT Le réacteur PVD de Centura est également équipé d'une caméra numérique haute résolution pour la détection précise du point final et d'un contrôleur de vitesse variable pour le contrôle indépendant des processus. Le modèle est également livré avec un équipement de diagnostic en cours de fabrication, qui fournit des informations en temps réel sur l'état du réacteur. L'interface sans fil intégrée permet la communication avec des dispositifs externes tels que les ordinateurs, permettant la collecte et le traitement des données du réacteur pendant le fonctionnement du système. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor offre une variété de fonctionnalités de sécurité, telles que la protection par mot de passe et l'authentification des utilisateurs pour assurer un fonctionnement sûr. L'unité dispose également d'une gamme de capteurs environnementaux, y compris des capteurs de température et de pression, qui surveillent et contrôlent les conditions de fonctionnement pour une sécurité accrue. En résumé, le réacteur PVD AMAT/Centura est une machine PVD très précise et fiable qui permet un dépôt précis de couches minces à température réduite. Le réacteur dispose d'une multitude de fonctionnalités telles qu'un filament intégré, un outil de caméra numérique haute résolution et un actif de diagnostic en temps réel qui fournit un contrôle complet du processus, sans effort et en toute sécurité.
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