Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9239622 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura PVD est un outil de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour déposer des couches minces sur des substrats avec une excellente uniformité. Il utilise une technologie avancée de multi-tuyaux et de multi-pistolets pour déposer des couches de matériaux pures et ultra-minces sur un substrat. Le taux de dépôt élevé de cet outil le rend adapté à un large éventail d'applications, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le conditionnement microélectronique, la production de dispositifs médicaux et le dépôt optique de revêtement. Le réacteur AMAT Centura PVD a une faible empreinte et est conçu pour être utilisé dans une variété de paramètres et de configurations. C'est une machine à haut débit avec une gamme de capacités de contrôle de processus. Le système de distribution de gaz de procédé de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Réacteur de PVD Centura est conçu pour assurer des débits de gaz optimaux et des distributions atomisantes pour maximiser l'uniformité des dépôts. Le système d'échappement intégré permet une évacuation efficace des volatiles et garantit la qualité et la propreté de l'environnement de dépôt. Le réacteur dispose également d'un système de régulation de température en boucle fermée pour une gestion précise de la température. Le réacteur PVD Centura offre une uniformité de dépôt supérieure à celle des autres outils PVD. Le réacteur a d'excellentes capacités de chargement et de dispersion de matériaux finement granulés et de précision provenant d'une large gamme de sources (or, argent, aluminium, titane, zirconium, etc.) et peut déposer une large gamme de métaux et d'alliages dans n'importe quelle combinaison souhaitée. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PVD Centura est conçu pour minimiser l'impact des particules sur la surface du substrat, en assurant des couches de dépôt lisses et uniformes, même lors du traitement de matériaux extrêmement minces. AMAT Centura PVD Reactor utilise une technologie avancée d'automatisation et de contrôle pour assurer un contrôle optimal des processus. Ses fonctions intégrées de suivi et de contrôle des processus permettent un contrôle précis tout au long des opérations. L'outil dispose également d'un menu de réglage automatisé de la chambre de réaction pour une adaptation facile et rapide des paramètres de la recette, ainsi que des économies de temps et de matériel. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PVD Centura est une solution idéale pour les besoins de dépôt de couches minces à grande échelle. Grâce à son homogénéité supérieure, à son contrôle précis des processus et à son automatisation fiable, il peut être utilisé pour réaliser des films de précision pour diverses applications nécessitant des couches extrêmement minces et uniformes.