Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244068 à vendre en France

AMAT/AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura PVD (Physical Vapor Deposition) est un outil industriel utilisé pour le dépôt de couches minces et de revêtements. L'équipement est composé d'une chambre à vide, d'un canon à faisceau d'électrons, d'un générateur de champ magnétique, d'un système de distribution de gaz et d'éléments de chauffage et de refroidissement. Le réacteur AMAT Centura PVD fonctionne dans une chambre à vide pour assurer la qualité du processus de dépôt, qui est essentiel à la création de couches minces ou de revêtements. A l'intérieur de la chambre à vide, un canon à faisceau d'électrons, également appelé source, est utilisé pour diriger des électrons sur une cathode au centre de la chambre. Ceci provoque des atomes ou des molécules d'un matériau cible, appelé gaz de pulvérisation, vers des ions, permettant leur dérive à travers la chambre et frappant le substrat ou matériau cible. Afin d'assurer la bonne collimation des ions pulvérisés, un champ magnétique est généré et sert à guider les ions du gaz pulvérisant vers le substrat. Les films et revêtements déposés nécessitent également des éléments de chauffage et de refroidissement précis. Au cours du processus, une unité de distribution de gaz est utilisée pour assurer la diffusion précise de nombreux gaz différents à l'intérieur du réacteur. Divers gaz, tels que l'argon, l'oxygène et l'azote, sont utilisés pour différents types de films et de revêtements. Selon la nature des films ou revêtements nécessitant une pulvérisation, des gaz supplémentaires peuvent également être utilisés pour obtenir des résultats spécifiques. Par exemple, si des revêtements à faible usure sont nécessaires, une plus grande quantité de gaz d'argon est utilisée pour réduire la concentration en oxygène à l'intérieur de la chambre et aider à la pulvérisation pure et uniforme. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur à PVD Centura est une machine extrêmement polyvalente qui peut être utilisée pour de nombreux types d'applications de film et de revêtement. En optimisant différents paramètres, tels que la composition gazeuse, la température du substrat et la position du substrat, on peut déposer une grande variété de matériaux pour obtenir une gamme de caractéristiques souhaitées. L'outil est efficace, fiable et rentable, ce qui en fait une solution populaire pour une variété d'applications de couches minces et de revêtement.