Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9266097 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura PVD est un réacteur avancé de dépôt en phase vapeur (PVD) conçu et fabriqué pour des applications de dépôt en couche mince à haute performance. L'équipement permet une croissance très précise des couches minces et comprend une gamme de caractéristiques conçues pour maintenir la précision et la répétabilité tout en offrant une productivité et un rendement de production élevés. AMAT Centura PVD dispose d'une chambre de procédé unique où se produit le dépôt de couches minces, d'un environnement sous vide pour maintenir la pureté du procédé et d'un ensemble de composants matériels basés sur le mouvement pour le transport des matériaux de base et la manipulation de l'intention du substrat. Le système est hautement automatisé et comprend un ensemble complet de capteurs, de processus automatisés et de systèmes contrôlés par ordinateur pour contrôler le processus de dépôt. L'ordinateur intégré au cabinet fournit une gamme complète de commandes et de paramètres de l'unité, et un progiciel arrière est disponible pour faciliter la connexion et le contrôle. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La machine Centura PVD comprend des procédés de dépôt avancés tels que le dépôt par couche atomique (ALD) et le dépôt laser pulsé (PLD). L'ALD permet la formation de couches ultra minces de matériaux, tandis que le PLD est utilisé pour la croissance d'aciers, de métaux non alliés et d'alliages. La chambre est équipée d'une fenêtre d'accès pour le dépôt assisté par les médias, ce qui permet l'introduction de matériaux cibles de l'environnement extérieur dans la chambre de procédé. Ce procédé est utilisé pour le dépôt rapide de métaux, de céramiques et de polymères, ainsi que pour les opérations de gravure par pulvérisation. Centura PVD outil est équipé d'une variété de capacités d'entrée de gaz et d'oxygène pour introduire des gaz spécifiques dans la chambre de processus. Ceci permet d'optimiser la chimie de surface et la stabilité du substrat. La capacité de surveiller et de contrôler la température de la chambre, la pression et le mélange de gaz permet la croissance des matériaux pour répondre aux exigences spécifiques du client. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD est livré avec une variété de capacités diagnostiques avancées pour assurer des résultats de processus reproductibles. Cela comprend une combinaison étendue d'outils de diagnostic in-situ et ex-situ qui permettent un contrôle précis du processus de croissance et un contrôle morphologique du substrat. L'actif dispose également d'une gamme complète de systèmes de sécurité, tels que l'arrêt automatique, pour protéger l'équipement contre les dommages ou les accidents. Le modèle AMAT Centura PVD offre une plate-forme haute performance avancée pour diverses applications de dépôt de couches minces. Ses composants d'équipement puissants, ses processus automatisés, ses fonctions de diagnostic et de sécurité avancées et ses capacités de personnalisation sophistiquées en font un système idéal pour un large éventail de besoins de recherche et de production.