Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Radiance #9094639 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance est l'un des systèmes de gravure plasma les plus avancés actuellement disponibles. Il s'agit d'un réacteur de gravure conçu pour les fabricants de dispositifs semi-conducteurs à très haut rapport d'aspect. Le réacteur est un outil incroyablement polyvalent, offrant à la fois des configurations simples et multichambres et divers procédés de gravure. L'équipement est capable d'atteindre des résolutions de moins de 100 nanomètres avec un taux de gravure modéré. Le réacteur AMAT Centura Radiance est équipé de plusieurs caractéristiques, permettant à la chambre d'être exécutée avec une large gamme de chimies de gravure et de méthodes de gravure. La technologie de résonance cyclotron électronique (ECR) produit un plasma extrêmement uniforme, tandis que le dépôt assisté par faisceau, une technologie radicalement nouvelle, assure que tous les matériaux déposés dans la chambre ont une épaisseur extrêmement uniforme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Radiance fonctionne en introduisant du plasma gazeux dans la chambre, créant un environnement fortement réactif sous tension. Ce plasma gazeux est ensuite utilisé pour le procédé de gravure, en dissolvant le matériau en cours de gravure pour atteindre le profil désiré. La gravure ionique réactive permet aux opérateurs de contrôler la profondeur et le profil de la gravure à l'aide de multiples passes, et le plasma à haute énergie augmente le taux de gravure. Cela permet également aux utilisateurs de sélectionner le taux de gravure approprié pour chaque application. Grâce à ses caractéristiques avancées, le réacteur Centura Radiance peut être utilisé dans un large éventail d'applications de gravure, depuis les interconnexions métalliques à haut rapport d'aspect sur les filières jusqu'aux nanostructures pour les essais optiques. Le système a également des applications en gravure haute constante diélectrique (k) et en fabrication MEMS. Le noyau AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance Etch Unit se compose de quatre composants distincts : une interface frontale facile à utiliser, une machine à vide robuste, une chambre de gravure à quartz unique et un outil de contrôle intelligent et de haute précision. Cette combinaison de composants crée une plateforme puissante pour les applications de gravure. Le spectromètre haute performance, l'actif optique numérique haute résolution et les capacités d'analyse chimique sont également utilisés pour contrôler et surveiller le processus de gravure. AMAT Centura Radiance offre des résultats de gravure fiables et reproductibles avec une large gamme de produits chimiques de gravure. Qu'il s'agisse d'une gravure simple ou double face, d'un rapport d'aspect élevé ou d'une grande uniformité de processus, d'une gravure pleine plaque ou d'une gravure ligne, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Radiance est capable de répondre à des exigences de gravure difficiles. Ce réacteur de gravure est un outil puissant dans le développement de dispositifs semi-conducteurs performants.