Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE #9188733 à vendre en France
URL copiée avec succès !
ID: 9188733
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
Etcher, 8"
2003 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura RTP XE est un réacteur multi-missions de gravure ionique réactive (RIE) conçu pour des applications de micromachinage et de gravure à haut rapport d'aspect. Le réacteur est composé d'une source de plasma à couplage inductif (ICP), d'une source d'alimentation en pulvérisateur magnétron, d'un panneau de contrôle des procédés et d'une chambre de procédés. La source ICP génère le plasma et consiste en un résonateur alimenté par un générateur RF jusqu'à 400kHz, en plus d'un contrôle indépendant de toutes les sources RF. La source de pulvérisation à magnétron à double fréquence est constituée d'un magnétron plan et d'un magnétron cylindrique, et est capable de fournir jusqu'à 200W de puissance à chacun d'eux. L'utilisation d'une double fréquence permet le dépôt de couches d'épaisseur uniforme. Le panneau de contrôle du processus est alimenté par un ordinateur haute vitesse, et comprend une interface utilisateur graphique avec rétroaction de paramètres en temps réel. Cela permet de concevoir et de modifier facilement des recettes de processus complexes. Le panneau permet également à l'opérateur de surveiller et de contrôler le processus de gravure, notamment en fixant les taux de gravure désirés, la sélectivité des gravures, l'uniformité des gravures, les taux de dépôt et les recettes des procédés. La chambre de procédé utilise un support de plaquette électrostatique résistant aux produits chimiques et à haute température, qui assure une gravure uniforme sur tout le bord de la plaquette. La chambre de procédé dispose également d'une plaque de distribution de gaz périmétrique avancée qui distribue le gaz de procédé pour des performances de gravure contrôlées directionnellement. Cela permet une gravure peu profonde des caractéristiques de haut rapport d'aspect. En plus de la performance améliorée des processus, AMAT Centura RTP XE offre également une meilleure stabilité et fiabilité des processus. Il dispose d'un système intégré de contrôle de la température pour fournir un réglage précis de la température dans les parois de la chambre, assurant des résultats de gravure plus cohérents. Combinées, ces caractéristiques permettent à l'opérateur d'obtenir une cohérence de production à haut rendement tout en réduisant le temps et le coût du processus.
Il n'y a pas encore de critiques