Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura SA CVD #293767652 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura SA CVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) est un outil polyvalent et fiable qui est capable d'accomplir une variété de tâches, y compris les dépôts chimiques en phase vapeur à basse et haute pression (CVD). Il est conçu pour traiter une variété de substrats, dont le silicium, l'arséniure de gallium, le silicium polycristallin et les métaux, ainsi que des diélectriques tels que le borosilicate, le saphir et l'oxyde nitré. La polyvalence de ce réacteur permet également de traiter un certain nombre de matériaux différents à des températures différentes, ce qui permet une plus grande flexibilité. En termes de conception, le réacteur CVD AMAT Centura SA dispose d'un creuset APCVD avec un grand volume chauffé pour fournir un environnement pour un dépôt cohérent et fiable de haute précision. Le creuset indépendant APCVD est chauffé par un chauffe-matériau en graphite, alimenté par un signal de modulation de largeur d'impulsion (PWM) de 0 à 13 V jusqu'à 100 kHz. Ce réchauffeur dispose d'un équipement réglable de régulation de température de consigne pour maintenir les conditions de température souhaitées selon les instructions de l'utilisateur. En outre, le creuset APCVD est fourni avec un capteur de température réglable indépendamment qui peut être utilisé pour surveiller les performances thermiques pendant le dépôt. Le creuset APCVD dispose également d'un injecteur interne pour assurer un flux continu de réactifs et de gaz porteur vers la chambre de procédé. Afin de permettre un contrôle précis des paramètres de dépôt, le réacteur CVD Centura SA est également équipé d'un système réglable de régulation de la conductivité thermique. Cette unité permet d'ajuster les effets de convection et de conduction de l'atmosphère de la chambre réactionnelle, ce qui permet de mieux contrôler le dépôt de matériaux hautement perfectionnés. Le réacteur CVD Centura SA est également équipé d'une machine de mesure d'impédance de haute précision pour assurer des mesures précises de la densité électronique et de la conductivité de la chambre. Cela permet un meilleur contrôle des paramètres de dépôt et fournit le fondement nécessaire pour des mesures précises de l'épaisseur et de l'uniformité des dépôts. En outre, le réacteur est également équipé d'un outil de nettoyage automatique des surfaces pour assurer un dépôt précis et uniforme. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur CVD Centura SA est un excellent outil pour diverses applications de dépôt. Ce réacteur est polyvalent, fiable et comporte un certain nombre de caractéristiques importantes pour assurer des processus de dépôt précis, cohérents et reproductibles.