Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura SA CVD #9116524 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura SA CVD
ID: 9116524
Taille de la plaquette: 8"
DCVD-LH System, 8".
AMAT Centura® SA CVD est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu et fabriqué par APPLIED MATERIALS. Il est le plus couramment utilisé pour la réalisation de dispositifs et de circuits semi-conducteurs. Le réacteur CVD fonctionne en utilisant une combinaison de réactifs thermiques et gazeux pour déposer un mince film de matière sur un substrat, permettant la formation de dispositifs semi-conducteurs. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD Centura® SA est un réacteur à diffusion monobloc qui fournit des procédés de dépôt et de gravure précis et à haut rendement. Le réacteur utilise une source d'énergie puisée avancée pour fournir des procédés fiables et reproductibles qui donnent des films de meilleure qualité. Le contrôle de température est également très précis dans le réacteur CVD, avec la capacité d'atteindre des températures précises et contrôlables jusqu'à 1050 ° C (1922 ° F). La chambre du réacteur est conçue pour utiliser la technologie du flux direct pour améliorer l'uniformité et le contrôle des particules. Il dispose également d'une fonction de surveillance in situ qui permet une surveillance continue des processus en temps réel, permettant à l'utilisateur d'apporter toutes les modifications nécessaires sans perdre de temps ou de matériaux. Les parois internes du réacteur sont revêtues d'un matériau réfractaire spécial qui contribue à assurer un dépôt uniforme. Le réacteur CVD AMAT Centura® SA offre également des fonctionnalités d'automatisation et de diagnostic intégrées pour une modification rapide et facile des processus. Le système de contrôle automatisé du réacteur contrôle précisément plusieurs chambres de dépôt, avec la capacité de surveiller les temps et températures de processus et de les ajuster si nécessaire. En outre, le réacteur dispose également de capacités diagnostiques avancées qui peuvent détecter tout problème, permettant un ajustement rapide et facile. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD Centura® SA est conçu pour offrir une productivité et une efficacité maximales. Ses fonctionnalités automatisées et son contrôle précis de la température assurent un dépôt de film uniforme sur l'ensemble du substrat, tandis que son logiciel intuitif est parfait pour installer, contrôler et surveiller rapidement et facilement plusieurs chambres de dépôt. En outre, ses capacités diagnostiques avancées sont conçues pour aider à éviter les temps d'arrêt coûteux, assurant des rendements plus élevés avec un minimum de déchets.
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