Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura TAO #9230336 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura TAO (Thermal Atomic Layer Oxygen) est un outil semi-atmosphérique conçu pour fournir des technologies de dépôt performantes et peu coûteuses pour l'industrie des matériaux avancés. Le réacteur AMAT Centura TAO est capable d'obtenir un haut degré de contrôle du processus de dépôt, permettant une répétabilité exacte des paramètres de dépôt. Cela le rend idéal pour les industries axées sur les semi-conducteurs, les matériaux nanométriques et les applications optoélectroniques. La conception du réacteur repose sur un traitement thermique qui améliore l'uniformité et la répétabilité des procédés. Au niveau du procédé, le réacteur agit comme un four, permettant le dépôt au niveau moléculaire sans avoir besoin d'un procédé de dépôt en phase liquide. La flexibilité de la conception du réacteur permet une gamme d'options de procédé, telles que l'oxydation, la diffusion et les couches diélectriques. La chambre de réaction de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura TAO est située dans un environnement sous vide isolé, qui est contrôlé par la température et la pression. Cela garantit que la qualité et le débit de sortie sont cohérents et reproductibles. Le réacteur utilise un procédé en deux étapes, qui combine le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) avec le dépôt en couche atomique (ALD). Dans un premier temps, des molécules précurseurs sont libérées sous vide pour former un film mince sur le matériau à déposer. A la deuxième étape, le substrat est ensuite exposé à un plasma contenant de l'oxygène, ce qui modifie encore le film. Ce procédé en deux étapes permet de personnaliser et d'affiner les caractéristiques de la couche déposée. Le réacteur TAO de Centura est également connu pour sa facilité d'utilisation, son entretien minimal et sa production de déchets minimes. Il est capable d'obtenir la plus haute qualité de dépôt avec une efficacité maximale, ce qui le rend bien adapté à tous les types d'applications de matériaux avancés. Le contrôle de la température et de la pression du réacteur permet un contrôle précis de la microstructure des couches déposées, ce qui permet aux clients de personnaliser leurs produits à des niveaux exceptionnels de détail. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura TAO est un outil fiable, performant et semi-atmosphérique qui permet aux clients de reproduire exactement leurs paramètres de dépôt pour des applications avancées. Son procédé en deux étapes et son contrôle précis de la température et de la pression offrent aux utilisateurs la plus haute qualité et la plus grande efficacité de dépôt. Avec toutes ces fonctionnalités et avantages, AMAT Centura TAO est certainement un outil incontournable pour toute personne dans l'industrie.