Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #115605 à vendre en France
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Vendu
ID: 115605
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chambers
Technology :IMD
Wafer Size : 200mm
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch D : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orienter
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER D - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, D
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
Chamber A, B :ASTEX 80S09mW (2)
Chamber D : ENI Genesis Nova -50A-04
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect
Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Heat Exchanger : SMC Thermo
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
System Can be inspected
Currently Crated
2000 vintage.
Le réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) AMAT Centura Ultima High Density Plasma (HDP) est un équipement de procédé tout-en-un qui offre un dépôt précis, précis et rentable des films et des empilements de films, sur les petites et grandes tailles de plaquettes. Ce réacteur CVD utilise des sources de plasma très efficaces à des taux de dépôt élevés afin de déposer des films ultra-minces sur une gamme de substrats complexes. Cet outil haute performance promet une fenêtre de processus mûrissant, une répétabilité incroyable et des performances et une robustesse inégalées dans l'environnement fab. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura Ultima HDP CVD utilise des sources de plasma avancées à des puissances et des fréquences élevées pour assurer un contrôle précis des taux de dépôt et de l'uniformité. Ce système est conçu pour gérer les opérations plasma haute densité, permettant à l'utilisateur de réaliser une grande uniformité et un débit de dépôt élevé sur une gamme de matériaux à couches minces. L'unité fournit un dépôt précis et répétable sur des substrats de grand (200 mm) et de petit (150 mm) diamètre, ce qui en fait un réacteur leader de l'industrie pour le dépôt de films sur des substrats complexes. AMAT Centura Ultima HDP CVD est conçu avec une gamme de caractéristiques de sécurité et ergonomiques, assurant la sécurité des utilisateurs et la facilité de fonctionnement. Le bras robot est conçu pour offrir un transfert de plaquettes sûr et fiable, minimisant les cycles de processus totaux. La conception à chambre unique de l'outil assure une sécurité accrue grâce à l'élimination des opérations de transfert de chambre à chambre. L'ergonomie optimisée de l'actif fournit un environnement sûr pour le personnel, réduisant le risque d'erreurs de l'opérateur et d'autres accidents. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima HDP CVD est un modèle de haute performance qui est capable de dépôt de film précis et précis. Cet équipement utilise des sources de plasma avancées et offre une grande uniformité sur une gamme de tailles et de formes de substrat. Ce système est ergonomique, sûr et entièrement compatible avec une gamme de matériaux avancés en couches minces. Ce réacteur CVD est un outil idéal pour le dépôt de films dans des installations de fabrication de semi-conducteurs à grande échelle et dans des environnements de recherche et développement.
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