Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #115605 à vendre en France

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ID: 115605
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Etcher, 8" (2) Ultima chambers Technology :IMD      Wafer Size : 200mm      Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)      Software Version : B4.3.14 Ch A : Ultima HDP-CVD Ch B : Ultima HDP-CVD Ch D : Ultima + HDP-CVD Ch E : Multislot Cool Down Ch F : Orienter CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD : Nozzle : Long/Long Side Clean Gas Distribution : Baffle Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA Wafer Temperature Monitoring : Yes Top Gas Feed : Without Top O2 Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR Clean Method : Microwave CHAMBER D - Ultima + HDP-CVD : Nozzle : Long/Long Side Clean Gas Distribution : Baffle Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA Wafer Temperature Monitoring : Yes Top Gas Feed : Without Top O2 Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR Clean Method : Top Mount Line Frequency : 60Hz Line Voltage : 200/208V Line Amperage : 600A Platform EMO type : Turn to release EMO EMO Guard Ring : Yes System Labels : English w/Chinese Non-simplified System Smoke Detector : Controller EXISTING MAINFRAME : Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot Frame Type : Standard Frame System Placement : Through the Wall Mainframe Skins : No Mainframe Exhaust Duct : No Mainframe Facilities Connection : Back Robot Type : HP Robot Robot Blade : Ceramic Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor Loadlock Wafer Mapping : Basic N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max Valves : Fujikin 5 Ra Max Filters : Pall Ni 10 Ra Max Transducers : MKS w/ Display Regulators : Veriflo System Cabinet Exhaust : Top Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes APC Seriplex Cover : Yes Gas Panel Doors : Solid Gas Pallet Configuration : Chamber A, B, D Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer #1 SiF4 100 Y Y #2 O2 400 Y Y #3 SiH4 200 Y Y #4 Ar 300 Y Y #5 SiH4 20 Y Y #6 Ar 50 Y Y #7 NF3 2000 Y Y #8 Ar 2000 Y Y RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack Chamber A, B :ASTEX 80S09mW (2) Chamber D : ENI Genesis Nova -50A-04 Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass Heat Exchanger : SMC Thermo System Controller Signal Cable Length : 55ft RF Gen Rack Cable Length : 50ft Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft HX Hose Length : 50ft HX Cable Length : 50ft Pump Cable : 50ft Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m) Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale System Can be inspected Currently Crated 2000 vintage.
Le réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) AMAT Centura Ultima High Density Plasma (HDP) est un équipement de procédé tout-en-un qui offre un dépôt précis, précis et rentable des films et des empilements de films, sur les petites et grandes tailles de plaquettes. Ce réacteur CVD utilise des sources de plasma très efficaces à des taux de dépôt élevés afin de déposer des films ultra-minces sur une gamme de substrats complexes. Cet outil haute performance promet une fenêtre de processus mûrissant, une répétabilité incroyable et des performances et une robustesse inégalées dans l'environnement fab. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura Ultima HDP CVD utilise des sources de plasma avancées à des puissances et des fréquences élevées pour assurer un contrôle précis des taux de dépôt et de l'uniformité. Ce système est conçu pour gérer les opérations plasma haute densité, permettant à l'utilisateur de réaliser une grande uniformité et un débit de dépôt élevé sur une gamme de matériaux à couches minces. L'unité fournit un dépôt précis et répétable sur des substrats de grand (200 mm) et de petit (150 mm) diamètre, ce qui en fait un réacteur leader de l'industrie pour le dépôt de films sur des substrats complexes. AMAT Centura Ultima HDP CVD est conçu avec une gamme de caractéristiques de sécurité et ergonomiques, assurant la sécurité des utilisateurs et la facilité de fonctionnement. Le bras robot est conçu pour offrir un transfert de plaquettes sûr et fiable, minimisant les cycles de processus totaux. La conception à chambre unique de l'outil assure une sécurité accrue grâce à l'élimination des opérations de transfert de chambre à chambre. L'ergonomie optimisée de l'actif fournit un environnement sûr pour le personnel, réduisant le risque d'erreurs de l'opérateur et d'autres accidents. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima HDP CVD est un modèle de haute performance qui est capable de dépôt de film précis et précis. Cet équipement utilise des sources de plasma avancées et offre une grande uniformité sur une gamme de tailles et de formes de substrat. Ce système est ergonomique, sûr et entièrement compatible avec une gamme de matériaux avancés en couches minces. Ce réacteur CVD est un outil idéal pour le dépôt de films dans des installations de fabrication de semi-conducteurs à grande échelle et dans des environnements de recherche et développement.
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