Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #9063643 à vendre en France
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Vendu
ID: 9063643
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chamber
(1) Ultima plus chamber
Technology :IMD
Wafer Size : 8"
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
CHAMBER TYPE AND LOCATION
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch C : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orientor
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER C - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
EXISTING ELECTRICAL REQUIREMENTS
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EXISTING SAFETY EQUIPMENT :
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Loadlock Cassette : Narrow Body
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
EXISTING GAS DELIVERY :
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, C
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
REMOTES :
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
ASTEX 80S09mW (3)
Quantity : Two
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Existing Heat Exchanger : SMC Thermo
Umbilicals :
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
Currently crated and stored
System Can be inspected
1999-2000 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Ultima HDP CVD (High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition) est un four vertical modulaire et peu coûteux conçu pour la production à haut volume et à haut débit de matériaux à couches minces de pointe. Le réacteur est doté d'une conception brevetée innovante qui utilise des densités élevées de plasma sur un grand volume, permettant des taux de dépôt plus rapides et des taux de rendement plus élevés. La technologie offre également un faible parasite et une meilleure uniformité des dépôts, ce qui en fait un excellent choix pour des applications telles que les cellules solaires, les écrans plats, les revêtements optiques et les dispositifs semi-conducteurs avancés. Le réacteur CVD HDP d'AMAT Centura Ultima utilise le plasma haute densité (HDP) propulsé par RF pour provoquer des réactions à basse température, ce qui le rend économe en énergie et idéal pour produire des couches minces performantes. La technologie élimine également bon nombre des étapes coûteuses de manutention et de nettoyage des matériaux traditionnellement associées aux procédés CVD, minimisant les coûts et augmentant les rendements globaux. L'équipement est hautement configurable, ce qui permet d'utiliser une large gamme de sources et de matériaux plasmatiques - y compris des cibles métalliques et diélectriques, des composés diélectriques et des cibles gazeuses - dans une séquence sélectionnable. Au cœur des MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD HDP Centura Ultima est le sous-module, ou espace de travail, qui est une chambre entièrement fermée avec une seule source de plasma et un système intégré de traitement des gaz. Cette unité de traitement des gaz assure que le flux continu de gaz utilisé dans le processus de dépôt est toujours à des niveaux optimaux pour des résultats précis. Un porte-cible central assure la rotation du substrat à revêtir par le plasma sans obstruction pour une homogénéité optimale du procédé de dépôt. Le plasma à haute densité, couplé à un dépôt uniforme, assure que la température du substrat reste basse et uniforme, préservant les propriétés du matériau tout en assurant un dépôt de haute qualité et à motifs précis sur toute la surface. Le logiciel de contrôle avancé de la machine fournit une interface utilisateur intuitive, permettant un contrôle précis des paramètres du processus et permet une optimisation ciblée du processus de dépôt. Le réacteur CVD Centura Ultima HDP est un excellent choix pour toute ligne de production impliquant un dépôt de couches minces de pointe. Grâce à sa conception innovante et rentable, la production à haut débit est permise à faible coût et frais généraux minimes. Cela fait de l'outil un choix attrayant pour les fabricants industriels qui cherchent à réaliser le plein potentiel de dépôt en couches minces et d'amélioration des performances du dispositif.
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