Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9189127 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura Ultima HDP est un réacteur conçu pour les procédés de dépôt plasma haute densité (HDP) utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement HDP produit un potentiel plasma ultra-dense, homogène et à basse température, ce qui améliore l'uniformité et la qualité des dépôts de films. Le système HDP dispose également d'une densité de puissance élevée et offre un contrôle précis du flux ionique, un fonctionnement robuste et une excellente uniformité. En outre, AMAT Centura Ultima HDP dispose d'une conception avancée de source de plasma qui permet d'utiliser une large gamme de produits chimiques plasma. L'unité HDP est construite pour la fabrication à haut débit, fournissant des temps de traitement très rapides. Le réacteur HDP est conçu pour le dépôt avancé de procédés à haute densité (HDP), permettant l'application d'une variété de films, y compris des oxydes minces de grille, des films d'empilement de grille, des espaceurs de grille, des extensions de ligne de grille et des silicures. De plus, la conception des sources plasmatiques de APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP permet un contrôle précis du processus de gravure et des ions, assurant un contrôle rapide et précis du flux d'ions et du taux de gravure, ce qui minimise la variation des dimensions critiques, réduit la contamination des particules et améliore la résolution des fines lignes. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP est conçu pour être à la fois convivial et économe en ressources. Cette capacité intégrée de contrôle du processus assure un fonctionnement efficace, maintient une performance optimale du processus et améliore le rendement du dispositif. La conception automatisée de la machine du réacteur HDP permet également une surveillance à distance et une traçabilité complète afin de réduire les temps d'arrêt et d'améliorer l'efficacité. Centura Ultima HDP dispose également de capacités avancées de surveillance et de contrôle du processus qui permettent un ajustement dynamique du processus, ce qui permet un contrôle précis de la chimie du processus, de la température du masque et des dommages de surface tout au long du processus. En outre, l'outil offre des outils de diagnostic avancés tels que des profils de résidence et la surveillance des particules pour aider les opérateurs à ajuster et optimiser les paramètres de processus pour améliorer les performances du dispositif. CENTURA ULTIMA + HDP est un atout de pointe pour le dépôt de films plasmatiques haute densité pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il offre un contrôle précis du flux ionique et du taux de gravure, des temps de traitement rapides, un fonctionnement efficace et une surveillance avancée des processus pour améliorer les rendements des appareils. Le modèle est conçu pour la convivialité, l'efficacité des ressources et l'optimisation globale des processus, ce qui en fait une solution idéale pour les exigences modernes de dépôt de HDP.