Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9223731 à vendre en France
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ID: 9223731
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
CVD System, 8"
System general:
Mainframe: Centura 5200 DCVD
Wafer type: Notch
Chamber position A, B, C: HDP Ultima plus chamber, 8"
Chamber E position: Multi-slot cool down chamber
Chamber F position: Wafer orienter chamber
System controllers:
SBC V452 Board
VGA Board
P3 Board
Facility and safety configurations:
EMO Switch type: Turn to release EMO
EMO Guard ring
EMO Shunt trip
Bracket standoff adapter
Water and smoke detect output: Alarm
Facility power indicator
System water leak detector
Main frame:
Facilities type: Phase II
System placement: Stand alone
Front panel: Steel white polymer finish
Facilities connection: VCR
Facilities orientation: Mainframe facilities bottom connection
Facilities water: Phase II water
Controller IO interface option: I/O Expansion base card with seriplex gas panel card
Interface: GEM Interface
Load lock chamber type: Narrow body
Transfer chamber:
Transfer chamber manual lid lift
Transfer chamber sensor
Process chamber slit valve A, B, C: Bonded door with KALREZ O'ring
Robot type: HP+ Robot (Dual speed)
Basic wafer on blade detector
N2 Purge MFC type: Unit instrument (UFC-1661) 1L
Buffer purge slow vent flow: 500 sccm
Dedicated transfer rough pump: EDWARDS Pump interface
Mainframe inert gas lines:
Chamber N2 supply
Chambers N2 surface finish: 10 Ra
Mainframe N2 supply
Mainframes N2 surface finish: 10 Ra
Chamber A configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458
Thermalogic board
Manometer type: DUAL 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type: 3870-04276, Pendulum ISO250 (Actuator 52.3)
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1604W
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber O'ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
Chamber A process kit:
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Chamber B configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458 Thermalogic board
Manometer type: Dual 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type
3870-04276, Pendulum ISO250 Actuator 52.3
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1606W TF
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber o ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744RPS, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
EDWARDS Rough pump interface
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Gas panel configurations:
Gas panel type: HP 10 Ra
Cabinet exhaust: Top exhaust
Gas panel door
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Valve type: FUJIKIN 5 Ra max
Filter: MILLIPORE Ni 10 ra max
Fitting: VCR
MFC: SEC-4400 MC (D-Sub 9 pins)
Veriflo Regulator
MKS Transducer with display unit
Gas line configuration chamber A, B, C:
Gas pallet: HDP Ultima plus
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Automatic gas line purging capability
Gas 1: SiH4, 200 sccm
Gas 2: NF3, 2000 sccm
Gas 3: SiH4 Top, 20 sccm
Gas 4: SIF4, 20 sccm
Gas 5: AR Top, 50 sccm
Gas 6: AR, 300 sccm
Gas 7: HE, 200 sccm
Gas 8: SIF4, 100 sccm
Gas 9: O2, 400 sccm
Gas 10: AR-MW, 2000 sccm
System controller:
Controller Type: Phase I Controller
Controller GFCI: 30MA GFCI
Controller UPS: Facilities ups interface
Controller electrical interface: Top feed AC cables
Controller exhaust: Top exhaust
Cursor type: Blinking cursor
Heat exchanger type:
SMC Themo chiller, INR-498-001D
Heat exchanger water fittings: Stainless steel
Generator rack:
Chamber A, B, and C top RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C side RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C bias RF generator: ENI GHW-50A
Power: 200/208 VAC, 50 Hz, 400 A
2001 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Ultima HDP est un outil de pointe dans le monde de la gravure à sec et du revêtement conforme. Cet équipement est conçu pour permettre aux fabricants d'atteindre un haut degré de précision avec un minimum d'effort et de complexité. Le HDP est synonyme de plasma haute densité, la technologie plasma la plus récente qui est conçue pour fournir le plus haut niveau de performance et le contrôle du cycle-temps sur une variété de processus. AMAT Centura Ultima HDP Reactor répond aux besoins de plus en plus complexes des fabricants mondiaux de semi-conducteurs. Les fonctionnalités avancées et l'architecture modulaire du système permettent une mise en œuvre rapide, la flexibilité et l'évolutivité pour un large éventail d'applications. Cela inclut le revêtement conforme ultra-fin, la gravure ionique réactive profonde (DRIE), le soulèvement du cuivre électrodéposé (ECLO) et d'autres applications. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA ULTIMA + HDP Reactor offre des niveaux élevés de productivité avec un contrôle optimisé du débit et du temps de cycle. Sa source de plasma RF multifréquence et sa cathode refroidie à l'eau permettent un contrôle de petite taille et une faible contrainte de film tandis que ses régulateurs de débit massique linéaires permettent un contrôle de précision des gaz de procédé. Son architecture modulaire lui permet d'être reconfiguré avec un minimum de perturbations et configuré en plusieurs chambres permettant un traitement rapide et précis d'un grand nombre de pièces en parallèle. Le réacteur HDP présente les dernières avancées dans les technologies de sources de plasma pour optimiser la gravure et les procédés de revêtement conformes. Sa nouvelle source et chambre de plasma permettent une gravure et un revêtement à haut rapport d'aspect. Les capacités avancées de contrôle des processus du réacteur HDP aident à obtenir des distributions de processus serrées, ce qui réduit la nécessité d'un ajustement manuel par les exploitants. La surveillance des processus en temps réel permet des décisions rapides et des mesures correctives rapides. Cette machine a intégré des diagnostics intelligents pour une rétroaction rapide des erreurs et un temps d'arrêt minimal. Ses capacités de simulation en ligne permettent aux utilisateurs de peaufiner rapidement une recette et d'effectuer les changements nécessaires sans longs temps de mise en place. En outre, ses données peuvent être utilisées pour enregistrer les détails pertinents du processus et améliorer les capacités de surveillance du processus. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP Reactor est l'outil le plus récent et le plus avancé dans le monde de la gravure à sec et du revêtement conforme. Cet outil est conçu pour les fabricants de semi-conducteurs à la recherche d'un atout fiable et efficace avec un haut niveau de précision et de répétabilité. Ses fonctionnalités avancées et son architecture modulaire permettent une mise en œuvre rapide et évolutive, lui permettant d'être reconfiguré avec un minimum de perturbations et configuré en plusieurs chambres pour couvrir une variété d'applications. AMAT CENTURA ULTIMA + HDP Reactor fournit des niveaux élevés de productivité et est équipé des dernières avancées dans les technologies de sources de plasma, permettant aux utilisateurs d'atteindre la précision requise pour des processus complexes.
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