Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 à vendre en France
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Vendu
ID: 116326
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
CVD-HDP system, 8"
Wafer shape: SNNF
SMIF: no
Chamber A: Ultima TE
Chamber B: Ultima STD
Chamber E: MS cool
Chamber F: orienter
Load lock type: wide body
Chamber A:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 4 hole ALN
Turbo pump: STP-XH 2603P
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: Top Mount RPS AE
ESC: without WTM
Chamber B:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 1 hole ALN
Turbo pump: ET1600WS
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: microwave
ESC: without WTM
Electrical:
Line frequency: 50/60Hz
Line voltage: 200/208V
Line amperage: 320A
Facility UPS interface: yes
GFCI: 100MA
System monitor:
1st: TTW
2nd: stand alone
3rd: yes
Mainframe:
System placement: TTW
Robot type: extended HP robot
Robot blade: ceramic
Load lock wafer mapping: enhanced
Load lock slippage sensor: yes
N2 purge type: STEC 4400M
Generator rack:
ETO 80-S09-uW
ENI AM200
Ch. A: Top / side / bias
Ch. B: Top / side / bias
(2) Heat exchangers:
1: SMC
2: AMAT 1
Umbilicals: 55ft
Dry pumps:
Chamber A: under cleaning
Chamber B: under cleaning
Load lock
Transfer
Gas delivery option:
VALVES: FUJIKIN 5 Ra max.
Filters: Pall
Transducers: MKS with display
Regulators: VeriFlo
Single line drop (SLD): yes
SLD gas lines feed: top
System cabinet exhaust: top
Gas pane configuration:
Chamber A:
O2 500sccm UNIT 8161
AR 300sccm HORIBAR
SiH4 200sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
SiH4 50sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
AR 1slm STEC 7400
NF3 2lm UNIT 8161
Chamber 4:
O2 400sccm STEC 7440
AR 300sccm STEC 7440
SiH4 200sccm HORIBAR
50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440
AR 50sccm STEC 7440
SiH4 20sccm STEC 7440
50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440
NF3 2slm HORIBAR
AR 2slm STEC 7440
O2 not shown
1998 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima TE (Tri-Energy) est un réacteur de traitement de semi-conducteurs conçu pour le dépôt de matériaux semi-conducteurs. Le réacteur dispose d'un équipement Tri-Energy (TE) unique qui fournit un débit élevé tout en maintenant un haut niveau d'uniformité de processus. Le système de chauffage à trois étages offre plus de précision et de répétabilité que jamais, ce qui permet des niveaux de rendement et de fiabilité les plus élevés. AMAT Centura Ultima TE est capable de dépôt à très haute température. Il utilise une unité de radiofréquence (RF) pour chauffer la plaquette avec une combinaison précise de chauffage inductif, convectif et radiant. Ceci permet au réacteur de manipuler des matériaux volatils et réactifs utilisés dans des procédés à haute température, et d'obtenir des couches de dépôt possédant des caractéristiques électriques et thermiques supérieures. En outre, le réacteur dispose également d'une doublure inerte bi-mode unique qui protège les composants contre le dépôt de sous-produits et de résidus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima TE est également livré avec du matériel et des logiciels intégrés qui rendent le processus encore plus facile et précis. La machine TE utilise un contrôleur tactile intuitif embarqué qui permet à l'utilisateur d'effectuer rapidement et avec précision les différentes étapes de dépôt. De plus, l'outil TE est capable d'interfacer avec d'autres instruments et systèmes, assurant à l'utilisateur un contrôle précis sur l'ensemble du processus. Le réacteur est livré avec une variété d'options qui en font un outil polyvalent et puissant en laboratoire ou sur le plancher de production. Il peut être configuré pour gérer une gamme de vitesses de croissance et de dépôt des couches, d'ultra-rapide à lente et stable. En outre, son contrôle de la température à large gamme et ses revêtements de haute qualité supportent une variété de systèmes et de procédés de matériaux, tels que le diamant fini hydrogène (HTD), les modèles de croissance de solutions (SGT) et le dépôt de couche atomique (ALD). Centura Ultima TE est un réacteur avancé qui offre des performances supérieures et d'excellents résultats pour ceux de l'industrie des semi-conducteurs. Son actif de chauffage avancé assure une grande uniformité de processus et des rendements élevés. Son interface avec d'autres systèmes permet un contrôle précis sur l'ensemble du processus. Ses différentes options de dépôt de matériaux lui confèrent la polyvalence et la puissance nécessaires pour gérer un large éventail d'applications de dépôt. De plus, son contrôleur tactile intuitif et sa doublure inerte bi-mode en font un outil fiable et sûr. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE le meilleur choix dans les réacteurs de traitement des semi-conducteurs.
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