Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 à vendre en France

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ID: 116326
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
CVD-HDP system, 8" Wafer shape: SNNF SMIF: no Chamber A: Ultima TE Chamber B: Ultima STD Chamber E: MS cool Chamber F: orienter Load lock type: wide body Chamber A: Nozzle: Side 24 ALN Top baffle: 4 hole ALN Turbo pump: STP-XH 2603P Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr Clean method: Top Mount RPS AE ESC: without WTM Chamber B: Nozzle: Side 24 ALN Top baffle: 1 hole ALN Turbo pump: ET1600WS Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr Clean method: microwave ESC: without WTM Electrical: Line frequency: 50/60Hz Line voltage: 200/208V Line amperage: 320A Facility UPS interface: yes GFCI: 100MA System monitor: 1st: TTW 2nd: stand alone 3rd: yes Mainframe: System placement: TTW Robot type: extended HP robot Robot blade: ceramic Load lock wafer mapping: enhanced Load lock slippage sensor: yes N2 purge type: STEC 4400M Generator rack: ETO 80-S09-uW ENI AM200 Ch. A: Top / side / bias Ch. B: Top / side / bias (2) Heat exchangers: 1: SMC 2: AMAT 1 Umbilicals: 55ft Dry pumps: Chamber A: under cleaning Chamber B: under cleaning Load lock Transfer Gas delivery option: VALVES: FUJIKIN 5 Ra max. Filters: Pall Transducers: MKS with display Regulators: VeriFlo Single line drop (SLD): yes SLD gas lines feed: top System cabinet exhaust: top Gas pane configuration: Chamber A: O2 500sccm UNIT 8161 AR 300sccm HORIBAR SiH4 200sccm STEC 7400 H2 1slm STEC 7400 HE 400sccm STEC 7400 SiH4 50sccm STEC 7400 H2 1slm STEC 7400 HE 400sccm STEC 7400 AR 1slm STEC 7400 NF3 2lm UNIT 8161 Chamber 4: O2 400sccm STEC 7440 AR 300sccm STEC 7440 SiH4 200sccm HORIBAR 50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440 AR 50sccm STEC 7440 SiH4 20sccm STEC 7440 50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440 NF3 2slm HORIBAR AR 2slm STEC 7440 O2 not shown 1998 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima TE (Tri-Energy) est un réacteur de traitement de semi-conducteurs conçu pour le dépôt de matériaux semi-conducteurs. Le réacteur dispose d'un équipement Tri-Energy (TE) unique qui fournit un débit élevé tout en maintenant un haut niveau d'uniformité de processus. Le système de chauffage à trois étages offre plus de précision et de répétabilité que jamais, ce qui permet des niveaux de rendement et de fiabilité les plus élevés. AMAT Centura Ultima TE est capable de dépôt à très haute température. Il utilise une unité de radiofréquence (RF) pour chauffer la plaquette avec une combinaison précise de chauffage inductif, convectif et radiant. Ceci permet au réacteur de manipuler des matériaux volatils et réactifs utilisés dans des procédés à haute température, et d'obtenir des couches de dépôt possédant des caractéristiques électriques et thermiques supérieures. En outre, le réacteur dispose également d'une doublure inerte bi-mode unique qui protège les composants contre le dépôt de sous-produits et de résidus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima TE est également livré avec du matériel et des logiciels intégrés qui rendent le processus encore plus facile et précis. La machine TE utilise un contrôleur tactile intuitif embarqué qui permet à l'utilisateur d'effectuer rapidement et avec précision les différentes étapes de dépôt. De plus, l'outil TE est capable d'interfacer avec d'autres instruments et systèmes, assurant à l'utilisateur un contrôle précis sur l'ensemble du processus. Le réacteur est livré avec une variété d'options qui en font un outil polyvalent et puissant en laboratoire ou sur le plancher de production. Il peut être configuré pour gérer une gamme de vitesses de croissance et de dépôt des couches, d'ultra-rapide à lente et stable. En outre, son contrôle de la température à large gamme et ses revêtements de haute qualité supportent une variété de systèmes et de procédés de matériaux, tels que le diamant fini hydrogène (HTD), les modèles de croissance de solutions (SGT) et le dépôt de couche atomique (ALD). Centura Ultima TE est un réacteur avancé qui offre des performances supérieures et d'excellents résultats pour ceux de l'industrie des semi-conducteurs. Son actif de chauffage avancé assure une grande uniformité de processus et des rendements élevés. Son interface avec d'autres systèmes permet un contrôle précis sur l'ensemble du processus. Ses différentes options de dépôt de matériaux lui confèrent la polyvalence et la puissance nécessaires pour gérer un large éventail d'applications de dépôt. De plus, son contrôleur tactile intuitif et sa doublure inerte bi-mode en font un outil fiable et sûr. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE le meilleur choix dans les réacteurs de traitement des semi-conducteurs.
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