Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9107256 à vendre en France
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Vendu
ID: 9107256
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
CVD System, 12"
Wafer Shape JMF
Position A ULTIMA X HDP-CVD
Position B ULTIMA X HDP-CVD
Position C ULTIMA X HDP-CVD
Position D NA
Position A Process OXIDE - USG / STI
Position B Process OXIDE - USG / STI
Position C Process OXIDE - USG / STI
Position D Process NA
Line Voltage 208 VAC
Line Amperage PRIMARY 320A, SECONDARY 240A
(A) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-3203LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
(B) - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-3203LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
(C) - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-H3603LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
Gas Delivery Options
Gas Panel Selected Option
Gas Feed BOTTOM
Gas Panel Exhaust BOTTOM
MFC Type UNIT 8565 & 8565C
Gas Panel Door STANDARD
Valves VERIFLO
Display Gas Pallets
Gas Lines
Transducers NONE
Regulators NONE
Filters Millipore/Mykrolis/NAS Clean
A - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET Selected Option
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 1L
Line 2 H2 (MFC Missing)
Line 3 HE - 600SCCM
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 AR - 1L
Line 6 HE - 600SCCM
Line 7 H2 - 1L
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 AR - 50SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 3L
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
B - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 1L
Line 2 H2 (MFC Missing)
Line 3 HE - 600SCCM
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 AR - 1L
Line 6 HE - 600SCCM
Line 7 H2 (MFC Missing)
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 AR - 50SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 10SLM
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
C - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 400SCCM
Line 2 NF3 - 400SCCM
Line 3 H2 - 1L
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 HE - 600SCCM
Line 6 AR - 50SCCM
Line 7 H2 - 1L
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 HE - 600SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 3L
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
Mainframe Options
Process Chamber Isolation
CHAMBER A SLIT VALVE
CHAMBER B SLIT VALVE
CHAMBER C SLIT VALVE
Mainframe and FI Alignment MF AND FI ALIGNMENT FIXTURES
CFW Manifold YES
LL and Xfer Ch Vac and Vent
Mainframe Type AP MAINFRAME
SWLL Doors AP STD SWLL DOOR
SWLL Cooldown
Wafer Hoop Type WAFER HOOP
Transfer Chamber Robot Blades
Transfer Chamber Robots STD REACH DUAL BLADE ROBOT
Transfer Chamber Lid CLEAR LID
Factory Interface Options
WIP Delivery Type OHT WIP DELIVERY
Number of Load Ports 2 LOAD PORTS
Atmospheric Robots KAWASAKI 2 FIXED ROBOTS WITH EDGE GRIP(C61D-B001)
Load Port Types ENHANCED 25 WAFER FOUP
E84 Carrier Handoff UPPER E84 INTERFACE ENABLED OHT
OHT Light Curtain LIGHT CURTAIN
Operator Access Switch YES
Configurable Colored Lights YES
Light Towers
Air Intake Systems
Remote Options
Sytem Monitors Selected Option
Monitor 1 FLAT PANEL WITH KEYBOARD ON STAND
Monitor 2
Heat Exchanger Selected Option
Heat Exchanger Type NA
Umbilicals Selected Option
Heat Exchanger Hose Length
Pumps Selected Option
Pump Supplied By NA
Pump Interface Type NA
AC Racks Selected Option
Facilities UPS Interface YES
Chamber Generator Type ENI GENERATOR RACK
SMC HX H2O Connection NA
QIL HX Qty
Ch A RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM B-10513)
Ch B RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM 11002-00)
Ch C RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM 11002-00)
Heat Exchanger Cable Length
Pump Interface Cable Length
Monitor 1 Cables
Monitor 2 Cables
Missing Parts
Turbo Throttle Valve
Ch#B Gas Panel DIO Board
HDD
Currently warehoused
2003 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura Ultima X est un réacteur de nouvelle génération, à haut débit, en plaquettes, conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est capable de manipuler jusqu'à 8 pouces de plaquettes et offre une large gamme de capacités de processus, des matériaux de stratification aux tranchées de traitement, les espaceurs, et les interconnexions. L'équipement est conçu pour répondre aux exigences de fabrication les plus avancées dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec sa plate-forme Ultima X, AMAT fournit une solution intégrée de fabrication de plaquettes avec la capacité de processus élargie requise pour les projets avancés de développement de puces. AMAT Centura Ultima X dispose de deux chambres de manutention de plaquettes avec une chambre de traitement de 9 kilowatts et une chambre auxilaire de deuxième niveau de 3 kilowatts. Les deux chambres sont reliées à un poste de vanne de traitement commun avec des joints à vide et disposent d'un système de distribution de gaz commun pour alimenter les gaz de traitement. L'unité de distribution du gaz du réacteur est contrôlée par un seul automate central et assure une distribution fiable et uniforme du gaz sur l'ensemble de la machine. L'Ultra X dispose également d'un poste de vanne d'isolement électronique, qui permet de minimiser toute contamination potentielle associée aux gaz de procédé. L'Ultima X offre également un module de recuit à basse température, garantissant que les plaquettes sont traitées à la température la plus basse possible pour des performances optimales. L'outil peut également être configuré avec une gamme de fonctionnalités et d'accessoires supplémentaires, y compris des capteurs supplémentaires, des cibles de pulvérisation et des chambres de traitement du plasma. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima X est conçu pour être compatible avec une variété de conceptions de fours, y compris les fours à tubes à paroi chaude horizontale et verticale et les réacteurs à plaquettes froides horizontaux multi-étages. Il dispose d'une interface compatible avec les systèmes de contrôle des semi-conducteurs courants, ce qui en fait une solution intégrée tout-en-un capable de répondre à tous vos besoins de fabrication. L'Ultima X offre également une variété de fonctionnalités avancées, y compris un module en métal intégré qui vous permet de superposer des couches de métallisation supplémentaires sans avoir à exposer la plaquette à l'ambiance. Cette fonctionnalité permet également de réduire les temps de cycle et de rendre la fabrication des appareils plus efficace et rentable. Les systèmes de contrôle avancés de l'Ultima X garantissent également la cohérence des recettes et des températures des procédés sur toutes les plaquettes. En conclusion, Centura Ultima X est un outil avancé de fabrication de semi-conducteurs à haut débit offrant une large gamme de capacités de processus. La plate-forme hautement intégrée de l'Ultima X aide à créer un processus fiable, et ses fonctionnalités avancées réduisent les temps de cycle et aident à créer des plaquettes rentables avec des performances fiables et une fiabilité durable.
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