Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9195501 à vendre en France

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur Centura Ultima X est un système CVD avancé à base d'étain et de siliciure (Chemical Vapor Deposition) conçu pour la mise en œuvre de matériaux et de structures avancés pour les procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ultima X augmente la précision, la fonctionnalité CVD et la flexibilité des processus pour garantir un processus de fabrication robuste et fiable. L'Ultima X dispose d'une architecture à double port pour l'introduction de matériaux à double source/chambre. Cela permet des temps de traitement plus rapides car deux substrats peuvent être traités simultanément. De plus, une tête de douche double gravée au laser permet une meilleure répartition des gaz réactifs sur les substrats sans perturbation des procédés. Le contrôle de la température de précision et les capteurs de pression à haute sensibilité de l'Ultima X garantissent une précision et une répétabilité supérieures. Ceci augmente le rendement et la cohérence, car le contrôle de la pression et de la température sont essentiels pour obtenir des résultats optimaux pendant le processus CVD. La suite logicielle avancée d'Ultima X offre un contrôle complet sur tous les aspects du processus, y compris les recettes de gaz, les opérations de chambre et l'autocalibration. Cela permet aux utilisateurs d'analyser les recettes en temps réel, de surveiller les paramètres critiques du processus et d'ajuster les paramètres du processus en temps réel pour optimiser les conditions du processus. La capacité automatisée de l'Ultima X permet une opération de maintenance extrêmement faible. Les opérations de maintenance se limitent au nettoyage de routine des tubes de distribution, des capillaires, des collecteurs de gaz et des ports optiques. Le système peut être entièrement automatisé, ce qui signifie qu'il peut fonctionner sans surveillance pendant des heures à des jours à la fois, permettant une plus grande efficacité. Afin d'assurer la stabilité du procédé, Ultima X offre une fonction de dérivation réglable qui réduit les variations de pression et de température dans la chambre de procédé. La dérivation permet également d'éviter les fluctuations de puissance, ce qui améliore la précision et la répétabilité. Tous les composants utilisés dans l'Ultima X sont de haute qualité et conçus pour des performances à long terme. La chambre de procédé à quartz de haute qualité, formée pour un maximum d'uniformité et de contrôle des débris d'évaporation, offre des performances supérieures. En outre, les alimentations et les instruments sont conçus pour éliminer les interférences, réduire le bruit de puissance et améliorer la qualité du produit. MATÉRIAUX APPLIQUÉS/AMAT Centura Ultima X est un outil CVD fiable et avancé pour la mise en œuvre de matériaux et de structures avancés pour l'industrie des semi-conducteurs. Il offre une précision supérieure, une fonctionnalité CVD et une flexibilité de processus, tout en offrant une opération automatisée et peu de maintenance.