Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9220219 à vendre en France

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X
Vendu
ID: 9220219
CVD System, 12" Mainframe: Centura ACP (2) PSG Chambers Components: (2) RF Generator racks AC Rack (2) SMC HX FI Missing parts: (2) ESC, P/N: 0040-48594 (2) BIAS Matches, P/N: 1110-00056 (2) RPS, P/N: 0190-24886 (2) Turbo pumps, P/N: 3620-00376 (2) Turbo controllers, P/N: 3620-00377 (2) Domes, P/N: 0200-01347 (2) WTM Probes, P/N: 1150-01028 (2) Throttle valves, P/N: 0010-29980 FE Server, P/N: 0090-04434 FI Server, P/N: 0090-04332 RT server, P/N: 0090-04468 Buffer robot driver, P/N: 0090-01972 UPS, P/N: 0190-22273 Currently warehoused 2007 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Ultima X est un équipement de traitement de pointe conçu pour des applications de dépôt et de gravure à haut volume dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'une chambre de processus thermique de grande surface intégrée dans un système compact qui offre un meilleur débit et un meilleur rapport coût-efficacité. Cette unité de réacteur intégrée de pointe fournit la plus grande uniformité, débit et rendement dans les technologies de traitement avancées. La machine AMAT Centura Ultima X Reactor dispose d'une chambre de traitement thermique de grande surface mesurant 15-x-15x-2 pouces. Cette chambre de procédés est conçue pour traiter de grands substrats de plaquettes permettant un débit plus élevé que les réacteurs traditionnels. Il est accordé pour des performances optimales à la fois rude et à basse température dépôt et processus de gravure. La chambre est équipée d'un port de chargement/déchargement rapide qui permet un retournement rapide des échantillons tout en maintenant les plaquettes dans un environnement sûr et contrôlé. L'outil dispose également d'un large éventail de technologies, y compris un régulateur de température indépendant avec une précision de 0,1 ° C, une conception de commutation de fréquence à grande vitesse, et une vanne de régulation de pression capacitive. En outre, la chambre de processus peut être configurée avec jusqu'à huit entrées de gaz, offrant la souplesse nécessaire pour répondre à une variété d'exigences de processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Ultima X est conçu pour assurer un dépôt et un traitement de gravure de haute qualité avec une excellente uniformité et un excellent débit. Sa technologie de pointe Multi-Etch permet d'améliorer considérablement l'uniformité des dépôts et des gravures tout en réduisant la budgétisation thermique. L'actif de traitement est bien adapté aux procédés semi-conducteurs avancés qui exigent une production à haut débit. Il est également configuré avec une multitude de dispositifs de sécurité comme la surpression, la rotation des échantillons et l'isolement du fond pour aider à réduire le risque de contamination. En plus des performances avancées du réacteur, il est également livré avec un ensemble d'automatisation pratique. Ce paquet comprend une interface graphique intuitive (UI) flexible et conviviale ainsi qu'un diagnostic complet de la recette de processus qui peut être adapté aux besoins spécifiques de l'utilisateur. Centura Ultima X propose également un large choix d'outils de diagnostic et de métrologie. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Ultima X est un modèle puissant et fiable bien adapté aux besoins du marché des semi-conducteurs avancés. Sa conception compacte, ses technologies de pointe et sa facilité d'utilisation en font un choix populaire pour de nombreuses industries. Grâce à sa conception thermique innovante, à ses performances résilientes et à sa production rentable, le réacteur AMAT Centura Ultima X est la solution ultime pour l'uniformité et le débit des procédés de haute qualité.
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