Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima #9087848 à vendre en France
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Vendu
ID: 9087848
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2009
HDPCVD System, 8"
Wafer shape: SNNF
SMIF Interface: No
Narrow loadlock
(3) Ultima STD chambers
Chamber information
Chamber A:
Ebara ET1600W turbo pump
Chamber B:
Ebara ET1600W turbo pump
Chamber C:
Ebara ET1600W turbo pump
System monitor:
First monitor: Through the wall
Second monitor: Stand alone
Mainframe information:
System placement: Stand alone
Robot type: HP Robot
Robot blade: Ceramic
Loadlock wafer mapping: Enhanced
N2 Purge type: STEC 4400MC
Gas delivery options:
MFC type: STEC 4400MC
Valves: Veriflow 10 Ra Max
Filters: Mott
Transducers: MKS w/o display
Regulators: Veriflo
Single line drop
Top SLD gas line feed
Gas panel door: Safety wired glass
Top system cabinet exhaust
MFC:
Chamber A:
Gas #1: O2 400 sccm
Gas #2: AR 300 sccm
Gas #3: SIH4 200 sccm
Gas #4: SIH4 100 sccm
Gas #5: AR 50 sccm
Gas #6: SIH4 30 sccm
Gas #7: SIH4 10 sccm
Gas #8: NF3 2 slm
Gas #9: AR 2 slm
Chamber B:
Gas #1: O2 400 sccm
Gas #2: AR 300 sccm
Gas #3: SIH4 200 sccm
Gas #4: SIH4 100 sccm
Gas #5: AR 50 sccm
Gas #6: SIH4 30 sccm
Gas #7: SIH4 10 sccm
Gas #8: NF3 2 slm
Gas #9: AR 2 slm
Chamber C:
Gas #1: O2 400 sccm
Gas #2: AR 300 sccm
Gas #3: SIH4 200 sccm
Gas #4: SIH4 100 sccm
Gas #5: AR 50 sccm
Gas #6: SIH4 30 sccm
Gas #7: SIH4 10 sccm
Gas #8: NF3 2 slm
Gas #9: AR 2 slm
50/60Hz, 208V, 320A, 100MA
2009 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima est un réacteur de recherche avancée en nanosciences conçu pour effectuer des opérations complexes avec un débit ultra élevé et des performances de vie ultra longue. Ce système dispose d'un réacteur multi-chambres à haut débit de haute précision pour le dépôt précis et précis de matériaux à haut débit de processus, contribuant à fournir des résultats reproductibles et peu coûteux. Ce réacteur utilise un gasmix avec un débit de gaz réglable et des contrôles de pression, avec une plage de pression de fonctionnement de 1000 mbar et une résolution de 0,0005 pour le contrôle de traitement fin. Il dispose également de chambres robustes et hermétiques conçues pour minimiser les risques de contamination, permettant un nettoyage rapide et facile. La conception de la chambre optimise l'uniformité des dépôts pour les couches et les couches, tout en minimisant le bruit et les vibrations qui peuvent affecter un environnement autrement étroitement contrôlé. Ce réacteur est équipé de systèmes de diagnostic et de contrôle in situ, comprenant une caméra haute résolution et un analyseur de gaz hyperfréquence, permettant un contrôle et une surveillance automatiques précis du processus de dépôt. La capacité de diagnostiquer un processus rapidement et avec précision permet à l'utilisateur de remédier à tout problème rapidement et avec précision. La chambre est également accordable mécaniquement, ce qui permet de régler différents paramètres et d'optimiser le procédé. AMAT Centura Ultima est conçu pour être compatible avec une large gamme de nanomatériaux et de matériaux de substrat - offrant l'avantage d'un dépôt flexible. Ce système a un environnement de classe 3 salle blanche assurant un environnement de particules faible et une stabilité optimale de la température. Il s'accompagne également d'un programme innovant d'application client, de collaborations de recherche et de formation aux nanomatériaux soutenu par AMAT. Tous les composants, tels que les supports cibles et les sources de dépôt, sont coordonnés et interchangeables en fonction des besoins des utilisateurs, ce qui permet de répondre à tous les besoins de traitement propres aux nanomatériaux. Ce réacteur polyvalent s'est avéré être une plate-forme fiable et puissante pour un large éventail de besoins en recherche et développement, fournissant un niveau ultime de performance. Avec un design polyvalent et des résultats fiables et reproductibles, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima est un outil précieux pour la recherche avancée en nanosciences.
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