Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima #9087848 à vendre en France

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ID: 9087848
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2009
HDPCVD System, 8" Wafer shape: SNNF SMIF Interface: No Narrow loadlock (3) Ultima STD chambers Chamber information Chamber A: Ebara ET1600W turbo pump Chamber B: Ebara ET1600W turbo pump Chamber C: Ebara ET1600W turbo pump System monitor: First monitor: Through the wall Second monitor: Stand alone Mainframe information: System placement: Stand alone Robot type: HP Robot Robot blade: Ceramic Loadlock wafer mapping: Enhanced N2 Purge type: STEC 4400MC Gas delivery options: MFC type: STEC 4400MC Valves: Veriflow 10 Ra Max Filters: Mott Transducers: MKS w/o display Regulators: Veriflo Single line drop Top SLD gas line feed Gas panel door: Safety wired glass Top system cabinet exhaust MFC: Chamber A: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm Chamber B: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm Chamber C: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm 50/60Hz, 208V, 320A, 100MA 2009 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima est un réacteur de recherche avancée en nanosciences conçu pour effectuer des opérations complexes avec un débit ultra élevé et des performances de vie ultra longue. Ce système dispose d'un réacteur multi-chambres à haut débit de haute précision pour le dépôt précis et précis de matériaux à haut débit de processus, contribuant à fournir des résultats reproductibles et peu coûteux. Ce réacteur utilise un gasmix avec un débit de gaz réglable et des contrôles de pression, avec une plage de pression de fonctionnement de 1000 mbar et une résolution de 0,0005 pour le contrôle de traitement fin. Il dispose également de chambres robustes et hermétiques conçues pour minimiser les risques de contamination, permettant un nettoyage rapide et facile. La conception de la chambre optimise l'uniformité des dépôts pour les couches et les couches, tout en minimisant le bruit et les vibrations qui peuvent affecter un environnement autrement étroitement contrôlé. Ce réacteur est équipé de systèmes de diagnostic et de contrôle in situ, comprenant une caméra haute résolution et un analyseur de gaz hyperfréquence, permettant un contrôle et une surveillance automatiques précis du processus de dépôt. La capacité de diagnostiquer un processus rapidement et avec précision permet à l'utilisateur de remédier à tout problème rapidement et avec précision. La chambre est également accordable mécaniquement, ce qui permet de régler différents paramètres et d'optimiser le procédé. AMAT Centura Ultima est conçu pour être compatible avec une large gamme de nanomatériaux et de matériaux de substrat - offrant l'avantage d'un dépôt flexible. Ce système a un environnement de classe 3 salle blanche assurant un environnement de particules faible et une stabilité optimale de la température. Il s'accompagne également d'un programme innovant d'application client, de collaborations de recherche et de formation aux nanomatériaux soutenu par AMAT. Tous les composants, tels que les supports cibles et les sources de dépôt, sont coordonnés et interchangeables en fonction des besoins des utilisateurs, ce qui permet de répondre à tous les besoins de traitement propres aux nanomatériaux. Ce réacteur polyvalent s'est avéré être une plate-forme fiable et puissante pour un large éventail de besoins en recherche et développement, fournissant un niveau ultime de performance. Avec un design polyvalent et des résultats fiables et reproductibles, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima est un outil précieux pour la recherche avancée en nanosciences.
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