Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima+ #9230338 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima + est un réacteur avancé à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) utilisé pour le dépôt en couches minces. Cet équipement utilise une source de plasma à double fréquence Novellus Generation4 avancée, permettant un contrôle précis des températures de dépôt pour déposer des couches d'uniformité jusqu'à 0,3 um d'épaisseur. Le réacteur est également capable de traiter des métaux diélectriques semi-conducteurs et conducteurs pour créer des interconnexions diélectriques de faible k ou des barrières de contact métalliques. AMAT Centura Ultima + intègre une conception exclusive de bobines inductives à double zone pour alimenter ses sources RF de 75 MHz et 13,56 MHz. Ceci permet d'améliorer l'homogénéité et le débit des couches, ce qui conduit à des rendements plus élevés et à un meilleur contrôle des rendements. Ses bobines RF magnétiques multi-lobées fournissent une excellente réplication du plasma dans toute la chambre pour une plus grande homogénéité de température et de couche, permettant un meilleur transfert des matériaux dans le substrat. Le système utilise les technologies Novellus Scrub et Drytube pour assurer un dépôt de couches minces de haute qualité et sans défaut. Le procédé d'épuration utilise un réseau en cascade de plusieurs tubes d'azote basse pression pour éliminer tous les sous-produits et contaminants plasmatiques de la surface du substrat avant l'étape suivante du procédé. La technologie drytube permet au gaz de procédé et à la température du substrat de rester cohérents, assurant ainsi des dépôts de haute qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Ultima + dispose également d'un module de station terminale intégré, permettant l'écriture de recette, la métrologie programmable et les options d'interface utilisateur réglable pour une optimisation maximale des processus. Son unité de manutention avancée permet au substrat de se déplacer et de tourner en permanence à l'intérieur de la chambre du réacteur sans interruption, ce qui permet une production à haut débit. En plus de ses technologies de dépôt avancées, le réacteur Centura Ultima + contient également une machine d'imagerie haute résolution, permettant des images précises et faciles à comprendre en temps réel du procédé. Cet outil soutient également l'optimisation des processus, fournissant un outil puissant pour le suivi direct et la compréhension des performances des processus. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima + plasma réacteur de dépôt chimique en phase vapeur offre une technologie de pointe pour la production de couches de couches minces uniformes de haute qualité pour une variété d'applications de dispositifs. Sa technologie avancée de dépôt et de manutention des matériaux combinée à des capacités intégrées d'interface utilisateur, d'imagerie et de métrologie fournit un atout idéal pour la production à haut débit de couches de couches minces de haute qualité.