Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #293805111 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura WCVD est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour implanter des matériaux traités chimiquement dans de multiples structures. AMAT Centura WCVD est un appareil flexible et très fiable qui offre d'excellentes performances et est extrêmement polyvalent dans ses capacités. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA WCVD se compose d'une enceinte réglable en température, d'un collecteur de gaz, de l'étage de plaquette fixe et de la plate-forme de levage des crochets, ainsi que de composants automatisés de placement et de manutention des plaquettes, du réacteur de procédé, du système de contrôle de la pression de la chambre et d'un régulateur de pression des impulsions. Ce système permet le dépôt de couches multiples tout en conservant une tolérance d'homogénéité serrée dans des couches uniformes. Centura WCVD dispose d'une cassette de plaquettes de soixante positions qui permet de traiter les lots en continu, jusqu'à 216 plaquettes. Des techniques de vide telles que « flash-fill » sont utilisées pour le déchargement et le chargement des plaquettes, ce qui minimise les dommages à la plaquette. En outre, les matériaux appliqués Centura WCVD est équipé de la capacité de zone de four double, supportant les opérations multi-four avec des températures différentes. Le réacteur de CENTURA WCVD est alimenté par une variété de gaz de procédé, de plasmas et d'épuisements. Le réacteur est constitué d'une chambre à quartz, d'une plaque de base et d'un bouclier thermique. Le gaz réactif est introduit à travers la plaque de base du réacteur, et est excité ou ionisé par l'énergie RF ou micro-ondes. L'énergie et le gaz réagissent entre eux pour générer une réaction chimique à partir de laquelle le matériau désiré est déposé sur le substrat. AMAT CENTURA WCVD utilise diverses sources de chauffage pour assurer l'uniformité du traitement des matériaux. Il y a plusieurs sources de chaleur qui sont utilisées, comme le gaz, RF, et hyperfréquences. La chambre est chauffée à haute température et les matériaux sont déposés à ces températures pour assurer l'homogénéité et la fonctionnalité souhaitée. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD comprend également des systèmes de contrôle de pression pour contrôler la température et la pression dans la chambre afin d'assurer des couches optimales de matériau. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura WCVD offre une excellente uniformité, un débit élevé et une excellente qualité de film. C'est un choix idéal pour le dépôt d'un large éventail de matériaux, tels que le silicium polycristallin, le tungstène, les couches diélectriques, les nitrures, les métaux et d'autres matériaux utilisés dans les systèmes avancés de circuits intégrés.