Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116739 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WCVD (Chemical Vapor Deposition) est un outil polyvalent de fabrication de dispositifs semi-conducteurs qui permet une fonctionnalité 3D avancée. Il est utilisé pour le dépôt d'une variété de matériaux en couches minces dont du silicium polycristallin, du Si3N4, du SiO2 et d'autres diélectriques dopés et non dopés. L'outil fonctionne en envoyant un mélange gazeux de deux ou plusieurs matériaux sources dans une chambre à l'aide d'un gaz porteur, puis en les chauffant à une température et une pression prédéterminées pour créer une réaction chimique. Cette réaction produit un produit réactionnel qui est ensuite déposé en couche mince sur un substrat tel qu'une plaquette de silicium. Le réacteur AMAT Centura WCVD est équipé d'un certain nombre de technologies et de configurations différentes pour permettre à l'utilisateur d'adapter le procédé à ses besoins. Cela comprend la concentration de réactif réglable, la température du substrat réglable, la puissance du chauffage réglable, les pressions réglables, les temps de séjour réglables et la géométrie de la chambre réglable. Ces caractéristiques permettent de contrôler avec précision les réactifs, en assurant des performances de dépôt cohérentes et reproductibles. En outre, le réacteur WCVD CENTURA APPLIED MATERIALS est livré avec un ensemble complet de contrôle de température et de diagnostic, qui comprend la surveillance de la température du substrat et de la chambre de dépôt. Cela aide en outre l'opérateur en fournissant des retours en temps réel sur l'état de l'outil et de ses processus. La technique de dépôt chimique en phase vapeur utilisée par le réacteur Centura WCVD APPLIED MATERIALS est très fiable et répétable. Il est capable de produire des surfaces extrêmement homogènes et lisses, idéales pour des applications avancées telles que les interconnexions en cuivre, les vias en silicium, les MEMS/NEMS, les IC radiofréquences et analogiques, les dispositifs optiques et les transistors MEMS/3D. En outre, le réacteur Centura WCVD offre un rendement thermique élevé et une faible utilisation du gaz, ce qui le rend à la fois économique et écologique. Dans l'ensemble, le réacteur CENTURA WCVD fournit des solutions de dépôt chimique en phase vapeur avancées et fiables. Il est capable de réaliser des surfaces de défauts extrêmement uniformes et faibles, idéales pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Les options de configuration réglables de l'outil, un ensemble complet de contrôle de température et de diagnostic, et une haute efficacité thermique permettent à l'opérateur de produire des produits rentables, reproductibles et fiables.