Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116740 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura WCVD est un équipement de réacteur conçu pour le dépôt de couches minces de matériaux isolants sur des plaquettes. Il utilise un procédé de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) pour déposer des films de nitrure de silicium, de dioxyde de silicium et de verre phosphosilicate (PSG). Le système est également capable de réaliser des films de silicium polycristallin et peut être utilisé pour le dépôt de grille et d'interconnexion, ainsi que pour le dopage de différentes couches. AMAT Centura WCVD se compose de deux composantes principales : la chambre de processus et le contrôleur. La chambre de procédé se compose d'une chambre à vide en acier inoxydable avec un quai de chargement de 8 pouces. Les surfaces intérieures de la chambre à vide comportent une garniture de blindage électrostatique pour assurer une protection supplémentaire de la plaquette contre les particules électriquement chargées. A l'intérieur de la chambre il y a plusieurs gaz de procédé, une source de dégagement, un suscepteur, et un filtre à haute température. Le suscepteur maintient la plaquette en place pendant le processus de dépôt et peut être chauffé jusqu'à une température maximale de 1100 ° C La source de décharge est utilisée pour décomposer le gaz précurseur. Le contrôleur est l'interface entre l'utilisateur et la chambre de traitement. Il est relié à la chambre de procédé et est utilisé pour faire fonctionner l'unité. Il permet à l'utilisateur de définir divers paramètres de processus, tels que le débit de gaz, la température de la plaquette et la densité du plasma. Le contrôleur fournit également des relevés de la pression de la chambre, du débit de gaz, de la température et d'autres données de processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA La machine WCVD est conçue pour fonctionner en mode manuel ou semi-automatisé. En mode manuel, l'utilisateur contrôle pleinement le processus de dépôt. Ce mode permet la plus grande souplesse dans le réglage des paramètres de dépôt. En mode semi-automatisé, l'outil ajustera automatiquement ses paramètres en fonction des recettes pré-programmées. Ce mode nécessite moins de supervision de l'utilisateur et permet un dépôt plus uniforme du film. CENTURA WCVD actif est une plate-forme efficace et fiable pour le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression de films isolants. Il est capable de produire des films de haute qualité et homogènes, tout en offrant une polyvalence dans ses paramètres de processus et ses modes de fonctionnement. Cela en fait un choix idéal pour une variété d'applications, du MEMS aux cellules solaires et semi-conducteurs.