Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116743 à vendre en France

AMAT AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WCVD est un équipement de pointe de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système CVD avancé est conçu pour fournir des films épitaxiés à plus haut rendement à des taux de dépôt plus élevés que les systèmes CVD traditionnels. Le réacteur AMAT Centura WCVD dispose d'un certain nombre de composants qui se combinent pour apporter des résultats supérieurs dans les applications épitaxiales et de diffusion. Tout d'abord, le réacteur WCVD CENTURA a une unité de distribution de source de gaz endothermique ou chauffée. Cette machine utilise des technologies propriétaires pour fournir des distributions de gaz uniformes et répétables aux cylindres ID et OD de l'outil. L'actif de distribution de gaz fournit également une homogénéité précise à la chambre du réacteur, donnant des résultats reproductibles. En outre, le réacteur AMAT CENTURA WCVD est équipé d'une chambre de transfert chauffée à haut rendement (HTC). Cette chambre assure un contrôle thermique efficace et assure une infusion uniforme des gaz de procédé sur les plaquettes de substrat. Le HTC réduit également les dommages causés par l'énergie thermique rayonnante et permet une récupération thermique plus rapide lors du cyclage entre les étapes de la recette. En outre, le réacteur CENTURA WCVD dispose d'un modèle d'injection de tête de douche programmable innovant. Cet équipement est capable de produire des gaz de procédé dans un motif de douche configurable donnant plus de souplesse et de contrôle sur le processus de dépôt. En outre, les anneaux de tuyère individuels multiples peuvent être utilisés pour permettre un contrôle précis du temps de diffusion et de l'environnement de chambre résultant. Pour compléter le système d'injection de tête de douche, Centura WCVD est équipé d'une source de résonance cyclotron électronique à canal quartz (ECR). Cette unité fournit un plasma de grande puissance pour des taux de croissance accrus par plasma, un gaz résiduel faible et un meilleur contrôle des paramètres du film. Il offre également une capacité inégalée de contrôler indépendamment les paramètres de croissance tels que la température et la chimie des gaz. Enfin, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WCVD dispose d'un module de durcissement photonique. Ce module est conçu pour améliorer encore les performances du dispositif par exposition ultraviolette (UV) de la plaquette de surface après dépôt. Ceci assure une plus grande uniformité et une meilleure adaptation de la plaquette pour un traitement ultérieur. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD est un outil puissant et polyvalent pour produire des films d'épitaxie et de diffusion de haute qualité. Ses fonctionnalités et composants avancés offrent aux utilisateurs un meilleur contrôle, uniformité et répétabilité pour leurs besoins de traitement.