Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116744 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura WCVD est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour les processus épitaxiaux de matériaux avancés. Il est utilisé pour la croissance de structures à grains serrés et l'épitaxie de substrats de circuits intégrés de haut niveau. La WCVD utilise les dernières avancées dans la conception des chambres de réaction pour d'excellentes performances, l'uniformité des processus et la robustesse. AMAT Centura WCVD dispose d'une chambre de réaction à tube vertical qui est refroidie à l'eau pour une gestion thermique supérieure. La chambre de réaction dispose d'aimants RF/DC amovibles pour une large gamme de capacités de traitement épitaxiales (croissance des plaquettes) et de manipulation de la machine. La chambre de réaction est également conçue avec des caractéristiques de confinement de gaz, telles qu'une forme améliorée et des plaques de blindage RF, pour une meilleure sécurité en fonctionnement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA WCVD est alimenté par un système de contrôle avancé qui offre une large gamme d'options de surveillance de processus. Il dispose d'un contrôle avancé de la température et de la pression, d'une gestion thermique de haute précision, d'une alimentation RF et d'un contrôle du gaz source. De plus, la pression et la température à l'intérieur de la chambre de réaction peuvent être maintenues dans une plage de 10 millitorr et 100 Celsius, respectivement. Pour la préparation des matériaux, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD est équipé d'une chambre de serrure, intégrée à un module de chargement à cassette. Cette chambre de serrure facilite le transfert des plaquettes de la cassette vers la chambre de traitement. Il dispose également d'un port de chargement latéral, permettant un dépôt direct sur les chambres à vide. En outre, AMAT CENTURA WCVD est équipé d'une vaste gamme d'accessoires comprenant des pompes d'échappement, des systèmes de distribution de gaz et des conduites de transfert chauffées et refroidies pour un meilleur fonctionnement. Centura WCVD est un réacteur CVD avancé idéal pour les processus épitaxiés de matériaux avancés. Grâce à sa conception innovante de la chambre de réaction, ses capacités de régulation de la température et de la pression, sa gestion thermique de haute précision et sa vaste gamme d'accessoires, CENTURA WCVD offre d'excellentes performances, une uniformité de processus et une robustesse.