Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9169932 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WCVD (Wet Chemical Vapor Deposition) est un outil spécialisé de qualité de production utilisé dans diverses applications avancées de croissance des matériaux. L'équipement du réacteur AMAT Centura WCVD est capable de réaliser une large gamme de films de haute qualité à des débits élevés. Le système combine une source de réactif chimique humide, un four à tubes à paroi chaude, une chambre de réaction refroidie, une unité de transfert de chaleur efficace et un contrôle de la température de haute précision. La source de réactif chimique humide est conçue pour un dépôt chimique en phase vapeur précis et stable. Les gaz réactifs, halogénure ou élémentaire, sont délivrés par une machine interne d'alimentation en gaz puis passés à travers un bulleur pour produire une gamme contrôlée de densité de nucléation. Le bulleur comporte un dispositif de chauffage inerte remplaçable qui permet de régler la température du bulleur à une plage désirée, ce qui conduit à un flux de gaz réactifs contrôlé avec précision. Le four à paroi chaude utilisé dans les matériaux appliqués CENTURA WCVD fournit un apport de chaleur très efficace et fiable. Il utilise un creuset solide en molybdène (Mo) pour assurer une répartition uniforme de la chaleur, et un bouclier thermique Mo haute émissivité pour protéger la chambre de réaction contre la dissipation de chaleur. Ensemble, ces composants assurent le maintien des niveaux de température requis dans tout le four. La chambre de réaction refroidie aide à contrôler la température de dépôt du film en fournissant un environnement stable et isolé thermiquement. Il est fait de tôle gainée de haute qualité qui fournit une excellente isolation thermique et un joint d'étanchéité étanche à l'air. En outre, il est équipé de ports d'évacuation des vapeurs à haut rendement qui aident à éliminer les gaz réactifs en excès et à réduire les températures de dépôt. L'outil de transfert de chaleur de Centura WCVD est conçu pour un dépôt de film rapide et efficace. Il utilise un élément chauffant à paroi chaude continue pour un potentiel de transfert thermique maximal, ainsi qu'un refroidisseur thermoélectrique robuste pour éliminer la charge thermique statique. Son contrôle à double zone assure une répartition uniforme de la température dans tout l'actif, contribuant à la création d'une qualité de film cohérente et éliminant la nécessité d'un cyclage thermique excessif. Enfin, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD dispose d'un modèle de contrôle de la température de haute précision. Cet équipement de contrôle avancé permet de contrôler en temps réel le dépôt du film, d'optimiser les paramètres du processus et d'assurer une qualité de film élevée. Associé à son système de transfert de chaleur efficace, le Centura WCVD offre une excellente productivité de dépôt en couches minces.