Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9358216 à vendre en France
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AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura WCVD est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production avancée de plaquettes semi-conductrices de grande surface. Le réacteur utilise une combinaison de gaz tels que l'hydrogène, le silane ou le méthane pour synthétiser une couche mince sur le dessus d'un substrat de silicium. Ces couches, le plus souvent du dioxyde de silicium ou du nitrure de silicium, peuvent être utilisées dans de nombreuses couches nécessaires aux circuits intégrés modernes. L'équipement dispose d'une conception à cadre ouvert avec un système unique de livraison de gaz et de préconditionnement permettant un traitement à haute température et un fonctionnement à haute vitesse. Cette caractéristique permet une plus grande homogénéité dans le dépôt des couches, ce qui est essentiel pour créer les circuits complexes nécessaires dans les circuits intégrés modernes. L'unité comprend également un module central de régulation de température, contrôlant à la fois la température de la chambre de procédé et le mélange gazeux entrant. Le réacteur AMAT Centura WCVD présente également un certain nombre de caractéristiques de sûreté. Par exemple, le réacteur est construit avec une protection à haute température pour assurer le maintien de températures de traitement sûres. Le réacteur est également équipé d'une pompe à vide et d'un outil de protection contre les surpressions qui empêche le fonctionnement du réacteur à une pression trop élevée. L'actif peut être utilisé pour traiter une variété de matériaux pour une variété d'applications. Les films poreux, denses et transparents peuvent tous être synthétisés à l'aide du réacteur Centura. Ces films peuvent être utilisés dans des applications telles que les cellules photovoltaïques, les catalyseurs et l'isolation intercalaire de dispositifs en silicium. Le modèle peut également être utilisé pour synthétiser des revêtements pour des produits chimiques et d'autres substances, ce qui réduit le besoin de traitements de substrat coûteux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA Le réacteur WCVD est une technologie efficace et fiable conçue pour produire une variété de dispositifs semi-conducteurs. Avec ses hautes performances thermiques et son contrôle serré des paramètres de dépôt, l'équipement est un excellent choix pour la production de composants électroniques.
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