Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #293763999 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura WxZ est un réacteur de production performant et de pointe conçu pour le dépôt de couches minces. Il est idéal pour le développement de procédés, couvrant une variété d'applications de silicium, de composés et de verre. Le WxZ est équipé d'un réservoir de précision et d'une large gamme de paramètres de processus, ce qui en fait un outil idéal pour le dépôt de matériaux de précision. Le réacteur WxZ dispose d'une automatisation avancée, y compris la surveillance de la vitesse de dépôt et la détection du point final. Avec un design robuste et peu encombrant, AMAT Centura WxZ est adapté aux applications de production avancées, y compris le dépôt laser pulsé, la vaporisation de ligne de visée et la pulvérisation. Les fonctions d'automatisation avancées sont conçues pour réduire le temps et le coût de production tout en augmentant le rendement global. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura WxZ fournit des dépôts couche par couche avancés avec un contrôle uniforme de l'épaisseur du film sur tous les substrats. Il offre un environnement extrêmement reproductible et polyvalent pour les processus de dépôt, améliorant la fiabilité des technologies d'intégration complexes. De plus, le WxZ est idéal pour une variété d'applications de capteurs/détecteurs, de dispositifs médicaux et de semi-conducteurs. Le système WxZ est livré avec une grande chambre de procédé, conçue pour optimiser le processus de dépôt dans un espace restreint. La chambre est bien équipée avec des fonctions avancées de gestion des gaz, y compris des contrôleurs de débit massique, de purge automatisée et de ventilation, et de trempe à l'azote pour filtrer les particules ou autres contaminants à l'intérieur de la chambre. De plus, le WxZ dispose d'une gamme de contrôleurs de processus tels que la livraison de précurseurs, le contrôle de pression, le contrôle de température et les systèmes de refroidissement. Le WxZ comprend également un module intégré en verre de tranche pour permettre le traitement répétable de divers substrats tels que le silicium, les matériaux composés et le verre. Il peut également être utilisé pour traiter différents types de substrats tels que des stries de motifs, des couches métalliques et des intradias. De plus, le système WxZ est conçu pour optimiser l'alignement de plusieurs substrats afin d'assurer un dépôt uniforme et cohérent des films à la surface. Centura WxZ est un réacteur puissant et fiable pour les applications avancées de dépôt en couches minces. Il offre une haute performance, flexibilité et répétabilité pour le traitement d'une variété de matériaux, y compris le silicium, les composés et les substrats en verre. Les fonctions d'automatisation haut de gamme associées à des processus d'ingénierie de précision offrent un contrôle des processus supérieur et des rendements de production exceptionnels.
Il n'y a pas encore de critiques