Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #9198276 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WxZ est un système de dépôt haute performance conçu pour permettre aux chercheurs en matériaux et aux inovateurs de produire des revêtements avancés et des couches minces ultrapures. Le réacteur AMAT Centura WxZ possède un procédé exclusif de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) qui permet de déposer plusieurs couches en une seule fois. Ce procédé utilise un mélange de gaz réactifs, de plasma et de chaleur pour déposer des couches minces de divers métaux, matériaux isolants et composés chimiques sur des substrats. Ce procédé peut également être utilisé pour déposer du matériau sur des matériaux existants sans endommager le substrat sous-jacent. Le réacteur est également équipé d'un système de cartographie des dépôts à haute résolution qui permet une localisation et un dépôt précis des couches minces. Le système de cartographie simplifie le processus de dépôt et assure le plus haut niveau d'uniformité sur l'ensemble du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WxZ est optimisé pour la croissance de films épitaxiaux et de superlattices sur divers substrats, y compris les semi-conducteurs composés Si, Ge et III-V. Il offre également une excellente uniformité d'épaisseur de film, de composition et de morphologie. De plus, l'uniformité de l'épaisseur du film le rend bien adapté au dépôt de multicouches, d'hétérostructures et de nanostructures. Le réacteur est équipé de systèmes de métrologie à haute résolution, y compris la caractérisation de l'épaisseur des couches minces, la caractérisation de la topographie de surface, l'ellipsométrie spectrale et la microscopie électronique à transmission. Les systèmes de métrologie fournissent des informations détaillées sur les propriétés du film pour une optimisation optimale de la croissance et un contrôle des processus. Centura WxZ Reactor propose également une large gamme d'équipements auxiliaires, tels que des systèmes de chargement auto-cassette, des systèmes auto-fluidiques, des systèmes de nettoyage in situ et des systèmes de contrôle thermique. Cet équipement auxiliaire permet un fonctionnement efficace et un traitement optimisé des plaquettes. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura WxZ est fiable et facile à utiliser, permettant aux chercheurs et aux innovateurs d'obtenir rapidement les couches minces souhaitées avec des taux de dépôt élevés et une excellente uniformité. En utilisant les dernières technologies, le réacteur offre des films supérieurs avec des propriétés et une efficacité supérieures.