Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #116340 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un type de réacteur de gravure/gravure à sec conçu pour la fabrication de photomasques. Il est conçu pour offrir une vitesse de gravure élevée, une forme de tranchée étroite et de ligne métallique, un bon contrôle du profil et des capacités de débit élevées. Le système intègre des méthodes avancées de manutention des plaquettes, de pré-nettoyage des substrats, de gravure et de post-nettoyage. La plaquette est d'abord montée sur une courroie à cassettes qui est ensuite introduite dans la chambre de traitement. La chambre est équipée d'un régulateur de température et de gaz pour fournir des conditions de traitement optimales. Une fois la vanne fermée et le processus amorcé, la puissance est appliquée et la gravure plasma est générée. Pendant le processus de gravure, une tête de repli est utilisée pour garder la largeur et la forme de la tranchée ou de la ligne métallique en contrôle. Le procédé de gravure plasmatique des photomasques et des couches de dispositifs semi-conducteurs utilise le mélange de gaz, la pression et la puissance pour soulever le motif de la plaquette. La première étape consiste à pré-nettoyer la surface de la plaquette avant le traitement de gravure. Le pré-nettoyage peut comprendre l'élimination des résidus du procédé précédent, l'élimination des particules de surface et le réglage de la rugosité de surface. AMAT CENTURA utilise Open-Loop Active Flow Control (FLOC) pour contrôler précisément la vitesse de gravure, pour réduire la surgravure et pour maintenir les dimensions cibles précises. Ce système supporte également un débit élevé, un contrôle précis de la forme et de la taille des lignes métalliques et un taux de gravure élevé. Les paramètres du processus sont surveillés et contrôlés en temps réel pour fournir des performances précises. Il en résulte des résultats de gravure uniformes, des lignes plus droites et un meilleur contrôle du profil. Le processus de nettoyage post-gravure (incluant différents bains chimiques et étapes de lavage) peut éliminer les résidus et les rayures qui se sont produits pendant le processus de gravure. L'étape de post-traitement permet aux pièces de passer des tests qualitatifs et d'être prêtes pour les prochaines étapes de traitement. En résumé, APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur de gravure/gravure sèche avancée conçu pour la fabrication de photomasques et de couches de dispositifs semi-conducteurs. Il fournit un contrôle précis de la vitesse de gravure, des capacités de débit élevées, et un contrôle précis de la forme et de la taille des lignes métalliques pour améliorer le rendement et l'efficacité du procédé. Les étapes de pré-nettoyage, de gravure et de post-nettoyage du système assurent des résultats de gravure uniformes et un meilleur contrôle du profil.