Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #201071 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA wafer processing equipment is a advanced film deposition reactor used in semiconductor fabrication. Il est conçu pour maximiser le débit et l'uniformité, tout en minimisant les taux de rebut. Utilisant des sources avancées de précurseurs de couches minces, le réacteur AMAT CENTURA offre une chambre en forme de toile qui permet de multiples configurations d'enroulement, d'augmenter l'uniformité de l'épaisseur du film et d'optimiser davantage le débit. Avec sa conception de chambre avancée, APPLIED MATERIALS CENTURA offre un contrôle des procédés de pointe, personnalisable pour répondre aux exigences de fabrication de tout dispositif semi-conducteur. Le réacteur CENTURA est construit sur un cadre solide et durable pour un contrôle maximum des vibrations, et offre une taille de plaquette standard de 4 « x 4 » - assez petite pour une expérimentation rapide. De plus, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA combine un environnement de dépôt basse pression et basse température avec une alimentation active très polyvalente. Leur bride exclusive et dédiée agit comme un système de distribution de gaz élargi, assurant une distribution uniforme sur le substrat de la plaquette, tandis que l'alimentation active offre une gamme complète de paramètres pour affiner un processus donné. Pour ce qui est de la productivité et de la répétabilité, le véritable attrait du réacteur AMAT CENTURA est sa capacité à optimiser des processus à la fois chronophages et hautement destructeurs. L'utilisation de matériaux précurseurs propriétaires et d'une chambre brevetée « Quench-Guard » PERMET AUX MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA de déposer rapidement et uniformément des précurseurs en couches minces. Avec cette unité, une homogénéité optimale peut être obtenue, même dans des conditions de recuit à haute température exigeantes. Comme pour toute nouvelle machine de dépôt, la répétabilité et l'uniformité des procédés est un élément clé des capacités optimisées de dépôt en couches minces. Avec CENTURA, la répétabilité des processus est encore améliorée, grâce à leur outil de polyvalence des gaz actifs, ou AGVS. Cet atout peut contenir jusqu'à trois gaz différents, ce qui permet d'ajuster plusieurs paramètres de processus en un seul cycle. Cela réduit considérablement le besoin d'ajustements manuels, et offre une plus grande précision dans le processus de dépôt. Pour améliorer encore la performance du réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA, un obturateur automatisé fournit un environnement de recuit contrôlé, assurant à la fois l'uniformité des dépôts et la répétabilité des procédés. En outre, un bras robot est inclus avec le modèle, permettant un chargement et un déchargement faciles des plaquettes. Cela garantit un débit maximum de plaquettes et une réduction spectaculaire du travail manuel. L'équipement offre également un logiciel intuitif qui est une merveille de moderne car il aide les utilisateurs à configurer les paramètres pour un dépôt optimal de couches minces en quelques clics de bouton. Compte tenu de toutes ces caractéristiques, il est facile de comprendre pourquoi le réacteur AMAT CENTURA est un dispositif révolutionnaire dans le monde de la fabrication de semi-conducteurs. De sa conception polyvalente à ses commandes logicielles avancées, il ouvre la voie à l'avenir du dépôt de couches minces. Avec ses résultats rapides, précis et reproductibles, APPLIED MATERIALS CENTURA offre aux fabricants de semi-conducteurs les outils dont ils ont besoin pour produire des appareils robustes et fiables.