Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293598413 à vendre en France

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ID: 293598413
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Oxide etcher, 12" Process: Dry ETC CIM: SECS / GEM KAWASAKI Handler Factory interface: (3) FOUPs Operating system: Windows XP Spare parts: Qty / Part number / Description (2) / 0190-00958 / Bearing for MF-Robot tube (4) / 0010-17405 / Wrist assembly (4) / 0190-13249 / Bearing for elbow (4) / 0190-13250 / Bearing for elbow (1) / 0010-17447 / Wallow controller 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Facilitler est un équipement de réacteur CVD/PECVD de pointe conçu pour le dépôt de couches minces sur divers substrats. Ce système avancé est équipé de deux chambres, et chaque chambre est équipée d'une seule ligne de gaz de procédé et d'une paire d'assemblages suscepteur/électrode couplés positivement, permettant une flexibilité de procédé et une uniformité de film supérieure. AMAT Centura Leverler utilise une technologie de pointe pour fournir une uniformité, une reproductibilité et une précision supérieures. Cette unité dispose d'une chambre de processus à double zone pouvant accueillir jusqu'à deux substrats. La pression du procédé va de 760 torrs contrôlés dans l'atmosphère. Cette machine dispose également d'une gamme de gaz de procédé efficaces, de Ar, O2, N2, H2, CH4 et plus. Cet outil accompli est conçu pour maximiser l'efficacité du processus, minimiser les pertes thermiques et augmenter le temps d'utilisation de la production. Pour ce faire, il est équipé d'un pyromètre haute puissance, d'un régulateur de température en boucle fermée et de systèmes de distribution dynamique de gaz améliorés pour une segmentation thermique de précision. De plus, ce modèle est pré-équipé avec la technologie ATC-on-the-Fly (ATCOTF), qui fournit un contrôle dynamique optimal du processus sans sacrifier le débit. En termes de dynamique de processus, APPLIED MATERIALS Centura Leverler utilise une chambre de réaction à faisceau d'électrons haute température (HTE) capable de fonctionner jusqu'à 1300 ° C Son chauffage de surface supérieur et son homogénéité sont encore améliorés par la résonance harmonique de ses deux suscepteurs et de ses deux électrodes. L'équipement dispose également d'une interface avancée de gestion active du gaz (AGA) pour la livraison et l'utilisation du gaz dans les deux chambres. En outre, Centura Facilitler maintient également un excellent contrôle de la température tout au long du processus de dépôt du film. La métrologie post-processus peut être intégrée en équipant le système d'un microscope électronique à balayage (SEM). En résumé, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Facilitler offre de nombreuses fonctionnalités avancées qui permettent le dépôt de couches minces d'une homogénéité et d'une reproductibilité exceptionnelles. Cette unité CVD/PECVD est idéale pour les applications nécessitant une haute précision et un contrôle des processus.
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