Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293614967 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) enrichi par plasma. Ce type de réacteur est utilisé pour déposer des couches minces de matériau sur différents substrats, tels que des semi-conducteurs et d'autres composants électroniques, dans la fabrication de circuits intégrés, de cellules photovoltaïques, et d'autres dispositifs. AMAT CENTURA est conçu pour être un réacteur productif, flexible et performant qui offre des capacités de dépôt de matériaux supérieures. Il utilise une source de plasma à distance (RPS) robuste pour générer des plasmas très réactifs et propres avec la capacité de changer plusieurs chimies et de traiter des paramètres. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA dispose d'un récipient sous vide conçu avec une source de plasma inductif (PIC) innovante et facile à utiliser. Il offre des paramètres plasmatiques personnalisables et très uniformes sur tout le substrat pour un dépôt uniforme. Une conception optimisée des connexions RF, des circuits d'accord RF et des échelles d'antenne fournissent tous un excellent accord plasma en réduisant le bruit spectral et en maintenant un plasma uniforme à travers le suscepteur. En permettant un contrôle précis de la puissance et du courant, la source ICP élimine efficacement la charge du substrat et la pulvérisation. La principale caractéristique de CENTURA est sa capacité à créer des matériaux avec une large gamme de concentrations de dopants et de précurseurs chimiques, offrant une plus grande flexibilité pour l'ingénierie des matériaux et la fabrication des dispositifs. Le système PECVD est capable de produire une gamme de matériaux, tels que des alliages SiGe monocristallins, des oxydes de terres rares et des couches de silice ultra minces, avec des capacités de dopage précises et répétables. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est également équipé de séparateurs à diffusion thermique rapide et de réacteurs à épitaxie thermique rapide, permettant l'échange de dopants et la réduction des défauts pour le traitement des dispositifs. En matière de chargement et de régulation de température, AMAT CENTURA offre un ensemble unique de fonctionnalités. Sa cassette de serrure intégrée est capable d'opérations à haute température, capable de maintenir une grande homogénéité pour jusqu'à cinq substrats. Avec la conception peu profilée, le système est simple et facile à utiliser, avec un système automatisé de transfert de substrat qui permet le chargement et le traitement rapides des substrats. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA est un réacteur avancé PECVD qui combine des performances fiables avec une large gamme de capacités de dépôt. Ses caractéristiques innovantes offrent une flexibilité et des performances inégalées, tandis que sa conception optimisée réduit les coûts de maintenance, économise du temps et augmente le débit. En conséquence, CENTURA est le choix idéal pour la fabrication avancée d'appareils lorsque la rapidité et la qualité des processus de dépôt sont souhaitées.