Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293628309 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un outil de dépôt conçu pour la croissance de films épitaxiés sur des substrats de grande surface. La chambre est conçue de telle sorte que des ions puissent être implantés dans les films de toutes les directions, assurant l'uniformité du dépôt des films. Ce type de dépôt est connu sous le nom d'épitaxie et est couramment utilisé pour créer des structures ultra-minces et multicouches dans des dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur AMAT CENTURA peut fonctionner sous vide ou sous pression et est optimisé pour un cycle thermique uniforme lors du dépôt des films. Il est équipé d'une « source multi-ionique » unique qui permet le co-dépôt de différents films sur le substrat. Cette source multi-ion utilise des recettes exclusives qui sont spécifiquement conçues pour chaque application. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA dispose d'un environnement à haute température et à basse pression qui fonctionne dans une atmosphère semblable à une salle blanche. Son atmosphère basse viscosité, haute pression et inerte permet le dépôt de matériaux thermiquement stables avec une homogénéité exceptionnelle. L'environnement inerte assure que les contaminants ne sont pas introduits pendant le processus de dépôt du film, ce qui donne des caractéristiques solides et fiables sans artefacts gris. Un ultra-haut vide (UHV) est un composant important du réacteur CENTURA. L'UHV permet à la chambre de fonctionner à très basse pression, permettant le co-dépôt de films multiples et améliorant l'homogénéité des films cultivés sur le substrat. En outre, UHV assure un environnement de croissance ultra propre, protégeant l'intégrité du dispositif en cours de construction. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est alimenté par une alimentation moderne conçue pour fournir des températures extrêmement basses pour des processus améliorés. L'alimentation fournit un haut degré de précision de température, assurant des caractéristiques précises et une excellente uniformité sur le plan du substrat. AMAT CENTURA peut être configuré avec du matériel supplémentaire tel qu'un Load-Lock (LLS) pour les cycles d'échange de plaquettes. Le système Load-Lock permet des cycles d'échange rapides entre la chambre de dépôt et la chambre load-lock. Ce système réduit considérablement les risques de contamination et d'oxydation des plaquettes traitées et contribue à améliorer la reproductibilité des résultats. La dernière version de APPLIED MATERIALS CENTURA est conçue pour répondre à une grande variété de besoins des clients. La nouvelle version de « Intuitive CENTURA Instrumentation » est conçue pour réduire la courbe d'apprentissage et aider les utilisateurs à se relever rapidement. En outre, il dispose d'un « contrôleur intelligent » pour le contrôle automatisé des paramètres de dépôt qui peuvent être réglés pour des performances optimisées. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA system est un puissant outil de dépôt pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs fonctionnels et performants. Il utilise des systèmes de dépôt précis, un environnement inerte et un contrôle précis de la température pour assurer l'uniformité et la reproductibilité. Avec son évolution continue, il est certain de rester un outil important pour l'industrie moderne des semi-conducteurs.