Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293649931 à vendre en France
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ID: 293649931
Taille de la plaquette: 12"
Etcher, 12"
OEM Process
Transfer chamber
(3) Chambers
(2) AC Racks
Loader
Missing parts.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le catalyseur Centura est un réacteur à dépôt physique en phase vapeur (PVD) assisté par champ magnétique conçu pour le dépôt de couches minces. Le facilitateur est conçu avec un procédé RF magnétron à paroi froide qui élimine le besoin d'une source de chaleur thermique, et lui permet de produire des films minces de haute qualité, sans défaut, à des températures de traitement plus basses. Il est capable d'un large éventail de vitesses de dépôt et peut traiter de quelques angströms jusqu'à plusieurs micromètres par cycle de dépôt. AMAT Centura Facilitateur dispose d'un générateur RF haute performance et de faible puissance et d'un plateau d'antenne RF compact et réglable. La combinaison d'un générateur RF haute fréquence et d'un plateau d'antenne RF réglable permet un contrôle précis du processus physique de dépôt en phase vapeur et fournit une utilisation efficace de la puissance plasma disponible. Le générateur peut produire une gamme de niveaux de puissance allant de quelques watts à plusieurs centaines de watts, permettant un contrôle précis du processus de dépôt. De plus, le plateau d'antenne RF réglable permet à l'utilisateur d'ajuster le placement et l'orientation de l'antenne RF en fonction des matériaux spécifiques déposés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Facilitateur est également équipé d'un système sophistiqué de surveillance, de contrôle et de sécurité, permettant à l'utilisateur d'ajuster les paramètres du processus en temps réel, optimisant l'uniformité et la répétabilité. Le système de surveillance enregistre également diverses conditions de processus, ce qui permet une analyse et une vérification détaillées de la performance des dépôts, ce qui facilite les activités de dépannage et d'entretien. La conception et l'optique avancées de Centura Facilitateur permettent un large éventail de techniques de dépôt, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et le dépôt en couche atomique (ALD). Ces techniques permettent le dépôt de certains des matériaux les plus exigeants sur le plan technologique, notamment les oxydes métalliques, le carbone nanostructuré et les matériaux à haute énergie de surface. Le facilitateur peut également être équipé d'un système de distribution de gaz, permettant à l'utilisateur de mélanger et de déposer différents matériaux en un seul procédé. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Facilitateur est un outil incroyablement polyvalent, offrant une large gamme de fonctionnalités et de capacités, lui permettant de traiter certains des matériaux les plus avancés d'une manière fiable et répétable. En utilisant la technologie moderne de dépôt de plasma, le facilitateur peut aider à créer certains des matériaux les plus complexes utilisés dans la technologie actuelle.
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