Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293652600 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 293652600
Style Vintage: 2015
System Multi-station wafer handler (4) DPN HT Chambers, 12" AC and EQ Rack, 12" (2) EDWARDS / AMAT IPUP2 Dry pump RF Power signal generator 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est une station de traitement multi-chambres à haut débit utilisée pour le traitement de matériaux photorésistants ou de substrat. Il est utilisé dans de nombreuses industries où un traitement précis est nécessaire, comme les semi-conducteurs, les dispositifs médicaux, les revêtements à couches minces et l'aéronautique. La station se compose d'un boîtier en acier inoxydable fermé et est équipée d'une table, ou étage de substrat, et de quatre modules de traitement indépendants. Chaque module est équipé de divers composants de commande et peut contenir un certain nombre de différents types d'équipements, allant des pompes et injecteurs aux réacteurs, mélangeurs et évaporateurs. Les modules sont programmables et peuvent être configurés pour plusieurs processus, y compris le dépôt, la gravure et le nettoyage. Chaque module est également équipé de vannes d'arrêt de sécurité, ce qui le rend adapté au traitement des matières dangereuses. La table d'AMAT CENTURA est conçue pour une variété de tailles de substrat et peut accueillir des plaquettes de différentes formes et matériaux, y compris le quartz et le silicium. La table dispose également d'un dispositif de chauffage réglable et de capteurs de contrôle de la température, ainsi que d'un mandrin sous vide pour la préhension du substrat pendant la procédure de traitement. Le porte-plaquettes peut être réglé pour accueillir différentes tailles de plaquettes. La table peut être inclinée pour fournir une gamme d'angles de dépôt et de gravure. Pour assurer l'uniformité de la surface du substrat, APPLIED MATERIALS CENTURA dispose également d'un système de rotation réglable. Chaque module contient une chambre à vide et un système de pompe à vide, ainsi qu'une vanne d'admission de gaz dans la chambre de traitement. La vanne d'entrée contrôle le débit et la distribution du gaz à l'intérieur de la chambre de traitement, assurant ainsi l'uniformité du processus. La distribution du gaz est surveillée par cartographie de la pression à l'intérieur de la chambre. La chambre à vide est construite en acier inoxydable et est garnie de céramique résistante aux produits chimiques, et crée un environnement à basse pression, sans oxygène. Cet environnement permet un certain nombre de processus différents, y compris le dépôt, la gravure et le nettoyage. CENTURA a également la capacité d'intégrer des systèmes de surveillance et de contrôle supplémentaires, tels que des outils de radiographie ou des analyseurs de gaz de processus. La station dispose également d'une salle blanche de classe 5, qui convient à la manutention des matières dangereuses. Grâce à l'intégration de la surveillance avancée des procédés, des outils d'analyse et de l'automatisation, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur efficace et très polyvalent pour le traitement de matériaux photorésistants ou de substrat. Sa combinaison de composants fiables, sa grande modularité et son faible coût de maintenance en font une solution rentable pour une variété d'industries.
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