Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9052291 à vendre en France

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ID: 9052291
Taille de la plaquette: 8"
Rapid thermal processing system, 8" ISSG Process XE+ ISSG Chamber SiNGEN Chamber PolyGen Chamber Cool Down Station 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé dans la fabrication de composants semi-conducteurs à base de silicium. Ce système permet le dépôt de couches minces sur différents substrats tels que des plaquettes de silicium, des métaux et des matériaux organiques. Le CVD facilite la croissance des couches minces en chauffant le substrat à haute température et en faisant réagir les précurseurs entre eux. Ce procédé assure également une croissance uniforme du film sur toute la surface de la plaquette. AMAT CENTURA Reactor est le fruit d'une expérience de plusieurs décennies dans l'industrie des semi-conducteurs. Il offre d'excellentes performances, avec une répétabilité de processus inégalée parmi les autres systèmes CVD. Cette unité peut déposer un large éventail de matériaux, des diélectriques et des métaux aux oxydes, aux nitrures et au silicium polycristallin. Il dispose également de capacités avancées de contrôle de processus, permettant aux ingénieurs de peaufiner le processus pour plus d'efficacité et de performance. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA Reactor présente également un certain nombre de caractéristiques de sécurité et de protection de l'environnement. Sa chambre est en acier inoxydable résistant à la corrosion et est conçue pour protéger les composants et substrats sensibles de la contamination. En outre, le réacteur supporte des conditions de basse température et de basse pression, ce qui le rend parfait pour une utilisation dans des applications sensibles. La table des substrats et la chambre des matériaux sources enfermées réduisent également l'exposition aux gaz et aux fumées dangereux. CENTURA Reactor offre également des capacités de surveillance et de contrôle avancées. Il permet aux utilisateurs de configurer et d'ajuster automatiquement les paramètres du processus de réaction au besoin. Cela permet d'assurer une croissance constante du film et des performances fiables. En outre, la machine de surveillance sophistiquée fournit des informations détaillées sur le processus, permettant aux ingénieurs de modifier et d'optimiser le processus pour obtenir les résultats souhaités. En résumé, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor est un outil CVD puissant utilisé dans la fabrication de composants semi-conducteurs. Il offre d'excellentes performances, des fonctions de contrôle de processus avancées, une sécurité et une protection de l'environnement optimisées, et des capacités de contrôle et de surveillance complètes. Cela fait du réacteur AMAT CENTURA le choix idéal pour tout laboratoire de fabrication à la recherche d'un actif CVD capable et fiable.
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