Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9082524 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un outil de dépôt physique en phase vapeur (PVD) très efficace et précis conçu pour fournir des procédés de dépôt en couche mince fiables et reproductibles. C'est l'un des systèmes les plus avancés de ce genre et est typiquement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de matériaux tels que le nitrure de titane, l'arséniure de gallium et l'aluminium pour la fabrication de dispositifs. Cet équipement se compose de quatre composants principaux : une source de plasma, un suscepteur, un système de manutention des plaquettes et un contrôleur. La source de plasma d'AMAT CENTURA est une source spectraux de 300mm qui permet le dépôt de couches minces diélectriques et métalliques. Il est capable de produire un champ électrique haute fréquence à basse tension qui est ensuite ionisé pour former un nuage de plasma dense de gaz réactifs qui est utilisé pour pulvériser du matériau cible et créer des couches minces. Cette unité est également compatible avec divers gaz, dont l'azote et l'oxygène, qui peuvent être utilisés pour contrôler les propriétés des couches minces. Le suscepteur de la machine est un élément avancé utilisé pour supporter et chauffer la plaquette lors du dépôt. Il est composé d'une plaque de graphite revêtue de molybdène, qui est équipé d'un ensemble unique de chauffages et de commandes pour assurer la température uniforme de la plaquette pour une efficacité de dépôt maximale. L'outil de manutention des plaquettes de APPLIED MATERIALS CENTURA est un module robotique hautement automatisé qui est chargé de charger les plaquettes du magasin dans la chambre de réaction et de les décharger après dépôt de couches minces. Il est conçu pour permettre un chargement et un déchargement rapides et précis des plaquettes afin d'optimiser le débit. Enfin, le contrôleur de l'actif est chargé de contrôler les différents paramètres du processus PVD. Il est également utilisé pour surveiller et ajuster la température du substrat, le débit de gaz, la position de la plaquette, la puissance RF et d'autres variables de processus. Ceci permet de maintenir les paramètres dans des plages optimales pour un dépôt optimal. Dans l'ensemble, CENTURA est un modèle de dépôt de couches minces très avancé qui offre des procédés de dépôt de couches minces fiables et reproductibles pour la fabrication de dispositifs. Il est équipé d'une variété de composants et de caractéristiques pour garantir un maximum de performance, d'efficacité et de précision. Avec son équipement de commande sophistiqué, il est capable de contrôler les différents paramètres du processus de dépôt pour assurer d'excellents résultats.