Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9098405 à vendre en France

RÉACTEUR AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces sur des substrats tels que des plaquettes dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système est capable d'obtenir des taux de dépôt et une uniformité élevés dans un large éventail de matériaux, y compris le silicium, l'arséniure de gallium, le nitrure de titane et divers autres métaux et oxydes. Le réacteur AMAT CENTURA est conçu pour minimiser les dommages thermiques et les particules en éliminant les « hotspots » avec un contrôle uniforme de la température, en fournissant un contrôle précis du gaz et de la pression, et en incorporant une conception de chambre de processus étanche avec une faible masse pour une thermalisation plus rapide. L'unité est contrôlée en température par des lampes infrarouges ou un élément de chauffage électrique « charnière », et dispose d'un champ pyromagnétique afin de concentrer et d'augmenter l'uniformité du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA est construit avec du tantale de haute pureté pour la résistance à la corrosion et l'inertie chimique, ainsi qu'une doublure en acier inoxydable pour une meilleure automatisation des procédés. La machine dispose également d'une conception à faible teneur en particules, ce qui permet de minimiser le risque de contamination, ainsi que d'un outil d'échappement qui comprend l'épurateur TEOS et le convertisseur catalytique. Le réacteur CENTURA peut être programmé pour fonctionner avec des procédés à source unique et double, ce qui le rend adapté à divers taux de croissance, y compris l'isolement des tranchées peu profondes, le double damascène, la planarisation chimico-mécanique (CMP) et les procédés de salicide. Il offre un contrôle précis de la pression, de la température, du temps de processus et de la technique du faisceau moléculaire, ce qui donne une excellente uniformité, densité et linéarité (rampe vers le haut et rampe vers le bas). En plus des hautes performances disponibles avec AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA, l'actif est également facile à utiliser. L'interface permet aux utilisateurs de contrôler précisément tous les aspects du procédé, de la recette et du calendrier au contrôle de la puissance et du gaz, en fournissant une prédiction précise de l'épaisseur de la couche de substrat pendant le processus de dépôt. Le modèle est également évolutif et évolutif, ce qui permet aux utilisateurs d'adapter facilement l'équipement à leurs besoins changeants. Dans l'ensemble, AMAT CENTURA est un système CVD leader en raison de sa conception unique, de ses performances supérieures et de sa flexibilité. Il est capable de produire des résultats de haute qualité avec des dommages thermiques minimes, même avec des taux de dépôt élevés et une grande précision. Pour ces raisons, l'unité est largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour le développement de procédés, la production et les essais de qualification (AQ/CQ).