Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9101735 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur polyvalent et performant conçu pour la recherche et la production de films semi-conducteurs avancés et de circuits intégrés. Le réacteur est fabriqué par AMAT, une entreprise spécialisée dans les équipements et les systèmes de procédés automatisés. AMAT CENTURA est un équipement de traitement de plasma haute densité monobloc comprenant quatre sources de gaz réactif basse pression, une énergie hyperfréquence de grande puissance et un système de mesure in situ propriétaire. Pour améliorer l'intégration des processus et les mesures sur plaquettes, APPLIED MATERIALS CENTURA utilise deux modules de processus distincts qui peuvent être facilement modifiés au besoin. Le premier module est une unité de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LP-CVD). Ce module contient une source de plasma inductivement couplée, idéale pour la synthèse de couches minces et la modification de surface de couches avec des gaz réactifs. Le deuxième module est une machine de dépôt chimique en phase vapeur renforcée par plasma (PECVD). Ce module est utilisé pour le dépôt d'oxynitrure de silicium, de nitrure de silicium, d'oxydes de silicium dopés et d'autres couches minces. CENTURA dispose d'un outil de transfert de substrat à faible coût, qui réduit la main-d'œuvre coûteuse associée au traitement des plaquettes. Il intègre également un équipement de métrologie in situ propriétaire et une surveillance des processus à température ambiante, fournissant des mesures précises et fiables qui peuvent être ajustées pour obtenir des résultats optimaux. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA comprend également un filtre à effluent breveté à faible résistance, qui empêche les particules dangereuses de pénétrer dans l'atmosphère. AMAT CENTURA est capable de produire des films avec une large gamme de propriétés, telles que d'excellentes propriétés électriques, des propriétés thermiques supérieures, une morphologie de surface supérieure, et de basses températures de recristallisation. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA utilise la combinaison de micro-ondes de grande puissance, d'une source de plasma à couplage inductif et de multiples sources de gaz réactif pour le dépôt de films à couverture supérieure et de films plus minces pour un meilleur débit. Ses multiples sources de gaz permettent le dépôt de films à résistivité décroissante et à faible tension superficielle. En bref, CENTURA est un atout de pointe conçu pour la recherche et la production de films semi-conducteurs avancés et de circuits intégrés. Ses caractéristiques comprennent quatre sources de gaz à basse pression, une énergie hyperfréquence de grande puissance, des mesures in situ brevetées et un modèle de transfert de substrat à faible coût. Il est capable de produire des films avec d'excellentes propriétés électriques, des propriétés thermiques supérieures, une morphologie de surface supérieure et de basses températures de recristallisation. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA comprend également un filtre breveté à faible résistance, qui empêche les particules dangereuses de pénétrer dans l'atmosphère.