Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9116528 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9116528
Taille de la plaquette: 8"
IPS System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un système avancé de dépôt de matériaux utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système est utilisé pour déposer des matériaux en couches minces sur les surfaces des plaquettes semi-conductrices, de manière à former des circuits, des transistors et d'autres composants critiques de circuits intégrés. Le réacteur AMAT CENTURA se compose de plusieurs composants, dont une bobine de bande horizontale, un générateur de plasma et un montage générateur, une alimentation en plasma, une chambre à vide et un loadlock. La bobine horizontale de bande tourne une mince bande semi-conductrice qui est ensuite chargée sur le loadlock et placée dans la chambre à vide. À l'intérieur de la chambre à vide, la nappe est recouverte de matériaux en couches minces à l'aide d'un procédé avancé à base de plasma. Le générateur de plasma crée un plasma d'atomes d'argon, d'azote et d'oxygène qui sont ensuite dirigés sur la nappe à des températures et pressions élevées. Les ions négatifs du plasma interagissent alors avec les matériaux de la bande pour créer des couches minces. En faisant varier les gaz réactifs et les conditions opératoires, des procédés tels que le dépôt, l'oxydation et l'alliage peuvent être réalisés sur les couches minces. Le générateur de plasma peut également être utilisé pour traiter la nappe avec de l'ozone ou du plasma à haute énergie pour nettoyer la surface de la plaquette et éliminer les particules ou contaminants étrangers avant ou après l'application de couches de couches minces. Le plasma a également une grande souplesse en termes de contrôle de procédé et peut être utilisé pour effectuer des étapes dans différentes directions. Cela permet un contrôle plus précis des processus, ce qui est essentiel pour la fabrication des appareils. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA est équipé d'un logiciel sophistiqué qui permet d'ajuster les paramètres du processus tels que le réglage de la puissance, le débit de gaz et le réglage du vide pour répondre aux exigences du processus souhaité. Le logiciel enregistre également les données du processus afin que l'utilisateur puisse analyser les résultats et dépanner tout problème qui pourrait survenir. Le réacteur CENTURA est un outil précieux pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, car il permet une plus grande précision, un débit plus élevé et des vitesses de traitement plus rapides. Avec sa technologie de pointe et ses fonctions de contrôle des processus, il est devenu un élément clé de l'industrie de fabrication de semi-conducteurs.
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