Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9121573 à vendre en France

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ID: 9121573
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
RTP System, 8" (2) Mod 1 Chambers SNNF Loadlock: Wide body Signal tower Software version: C4.01a Hard drive GEM OTF Mainframe information: HP Robot type L/L Wafer mapping Robot blade: Quartz W/F Slippage sensor: Slide detect N2 Purge Chamber types: Chamber A: Mod1 ATM RTP Chamber B: Mod1 ATM RTP Chamber D: Cool Chamber F: Cool Gas configuration: Chamber A MFC 1 N2: Tylan 10L MFC 2 N2: Tylan 20L MFC 3 O2: Tylan 5L MFC 4 NH3: Tylan 10L Chamber B MFC 1 N2: Tylan 10L MFC 2 N2: Tylan 20L MFC 3 O2: Tylan 5L MFC 4 NH3: Tylan 10L 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur de fabrication de semi-conducteurs à grande échelle et polyvalent construit par AMAT. L'équipement est conçu pour répondre aux besoins croissants de l'industrie des semi-conducteurs en composants de haute précision et à haut rendement. Le système comprend une technologie de pointe et un ensemble unique de caractéristiques pour garantir des performances de production supérieures. Le réacteur AMAT CENTURA est construit sur une plate-forme d'arséniure de gallium (GaAs) et est capable de créer des plaquettes virtuelles pouvant atteindre 3,5 pouces. Il est capable de produire des composants d'ultra-précision pour la structure des circuits intégrés, les couches minces et les substrats d'interconnexion haute densité (HDI). L'unité est conçue pour fournir une fonctionnalité complète pour les couches de gravure ionique réactive profonde (DRIE) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Les principales caractéristiques de la machine sont son cycle de fonctionnement élevé, ses excellentes caractéristiques matérielles et son contrôle de processus exceptionnel. Ses capacités de production à grande vitesse lui permettent de fabriquer rapidement des pièces et de réduire les temps de fonctionnement pour la fabrication de semi-conducteurs. Ses capacités d'usinage d'ions et de faisceaux photoniques lui permettent d'atteindre la grande précision requise par l'industrie. Il est également capable de s'adapter facilement à diverses configurations de processus et peut être rapidement reconfiguré pour répondre à la demande. L'outil peut également fournir une gamme complète de capacités de contrôle des processus, y compris la surveillance et la déclaration en temps réel des paramètres, l'enregistrement et le placement des substrats, le contrôle des particules, la pression et l'aspirateur des chambres, la détection du profil des chambres et l'optimisation des paramètres des processus. En outre, l'actif dispose d'une large gamme d'options d'automatisation pour gérer efficacement les changements de processus et augmenter le débit, ainsi que d'une bibliothèque de recettes pour une fabrication rapide et fiable des produits. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA est conçu pour répondre aux exigences de qualité les plus élevées et fournit fiabilité et précision, tout en fournissant un débit plus élevé et en réduisant les délais coûteux associés aux processus manuels. Le modèle est idéal pour la production de structures de nanostructure haute performance et haute résolution avec une excellente contrôlabilité et répétabilité.
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