Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9157220 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur CENTURAMD est un équipement avancé de fabrication de semi-conducteurs utilisé pour fabriquer des circuits microélectroniques pour la production de puces informatiques, de circuits intégrés et d'autres dispositifs sophistiqués. AMAT CENTURA® est un équipement de réacteur autonome très efficace qui combine plusieurs chambres et environnements de traitement différents en un seul équipement semi-automatisé. Le réacteur se compose de trois parties principales : la chambre principale où se déroule le processus principal, les chambres de prétraitement et de contrôle de la température, et les chambres de post-traitement et de sortie. Au cœur du réacteur se trouve la chambre principale, qui incorpore une variété de sources de plasma de haute énergie, telles que des plasmas RF ou générés par micro-ondes, et comprend en outre une source d'ions, une source cible et une source de substrat (plaquettes) pour obtenir les résultats de traitement souhaités. La source de substrat est utilisée pour charger et décharger des plaquettes, tandis que la source d'ions configurent le type d'ions, l'énergie d'ions et le flux d'ions pour optimiser la gravure, le dépôt et le polissage. La source cible fournit une cible métallique qui sert de source de divers matériaux lors du dépôt chimique en phase vapeur. La chambre de prétraitement est utilisée dans divers procédés, tels que le nettoyage chimique, la gravure métallique, la gravure thermique et l'activation de surface, tandis que la chambre de contrôle de température est utilisée pour contrôler avec précision la température de la cible et du substrat avant et pendant le traitement principal dans la chambre principale. La chambre de contrôle de la température est un composant particulièrement important du système réactionnel CENTURAMD des MATÉRIAUX APPLIQUÉS, car elle permet une gravure optimale, un dépôt chimique en phase vapeur, une diffusion ou des procédés de lithographie. La chambre de post-traitement est utilisée pour le nettoyage des gaz, le traitement thermique et la passivation finale. De plus, CENTURAMD utilise une machine de contrôle avancée pour assurer des performances précises et reproductibles d'un processus à l'autre. En outre, le réacteur est conçu pour être modulaire et souple dans son fonctionnement, ce qui lui permet de s'adapter à des applications changeantes. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAMD est spécialement conçu pour être un outil fiable, efficace et hautement configurable qui peut répondre aux besoins exigeants de l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Ses sources de plasma avancées, ses capacités de régulation de la température, son outil sophistiqué de gestion du gaz et sa conception modulaire polyvalente en font la plate-forme idéale pour les applications de recherche et de production.