Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9189948 à vendre en France

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ID: 9189948
Taille de la plaquette: 8"
PVD System, 8" Chamber A: AL Chamber B: TTN Chamber C: PCII Chamber F: Orient degas LLC: Narrow body HP Robot Missing parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur à haute performance développé par AMAT, utilisé principalement dans l'industrie des semi-conducteurs pour des procédés de lithographie tels que les procédés UV profonds et Etch. La plateforme AMAT CENTURA est basée sur une configuration multi-chambres et multi-zones conçue pour maximiser la productivité et l'efficacité. Il est équipé de gravures de quartz à haute température, de dépôts sous vide à haute pression et de systèmes de dépôts plasma à haute fréquence. La conception à plusieurs chambres de l'équipement APPLIED MATERIALS CENTURA permet une meilleure performance des processus par rapport aux systèmes à chambre unique. Ceci est dû à l'amélioration des mesures de température, de pression et d'uniformité qui sont possibles avec la conception de plusieurs chambres. La conception à plusieurs chambres permet également d'augmenter le débit de gaz, ce qui permet des débits plus élevés tout en améliorant l'uniformité du processus. Le système CENTURA est capable de gérer jusqu'à quatre chambres de processus distinctes. Cela permet d'améliorer le débit et la capacité d'exécuter différents processus simultanément en utilisant les chambres séparées. Chaque chambre est équipée d'un contrôleur indépendant pour les différents paramètres du procédé, tels que la température, la pression et les vitesses de dépôt. Il est conçu pour la précision de la température, ce qui permet un contrôle précis des étapes de gravure et de dépôt. L'unité comprend également des technologies de dépôt sous vide telles que le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma et le dépôt par couche atomique, permettant de réaliser des structures plus complexes. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA dispose également de dépôts plasmatiques haute fréquence pour réduire le temps de cycle et améliorer l'uniformité. Les plasmas à haute fréquence ont une plus grande tolérance au bore, qui peut être utilisé pour réduire le temps de cycle ainsi que pour faciliter le dépôt de diélectriques à haut k. La machine comprend également des mécanismes de sécurité tels que des boîtes à gaz, des capteurs actifs d'échappement et piézoélectriques, qui surveillent les différents paramètres du processus. Cela garantit la sécurité d'utilisation de l'outil et le respect des normes de sécurité les plus élevées possibles. L'actif est également conçu pour minimiser la contamination et maximiser l'efficacité, et l'interface utilisateur facilite la surveillance et l'ajustement des différents paramètres. En conclusion, AMAT CENTURA est un modèle de réacteur puissant et efficace avec plusieurs chambres et zones qui améliore la productivité et l'efficacité tout en permettant d'améliorer les mesures de température, de pression et d'uniformité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La plate-forme CENTURA peut gérer quatre chambres distinctes et est équipée de dépôts sous vide, de dépôts plasma haute fréquence et de mécanismes de sécurité pour assurer la sécurité des utilisateurs et la qualité des pièces produites. Avec cela, c'est un outil idéal pour tout processus de lithographie de haute précision.
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