Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9196871 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) couramment utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour déposer des films conformes de haute qualité sur des substrats. Le procédé CVD consiste à transformer une phase de matière, typiquement une phase gazeuse ou vapeur, en un mince film solide. AMAT CENTURA est spécifiquement équipé d'une grande chambre de réaction à quartz qui distribue efficacement des précurseurs sur un substrat donné. De plus, le contrôle précis du procédé est assuré par le chauffage intégré et les systèmes de régulation de température associés, ce qui permet de contrôler l'épaisseur de la couche et l'uniformité dans les conditions de vide. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) qui permet un contrôle indépendant de la température de la zone. Ceci est obtenu par un biais RF multi-zones, qui applique un chauffage précis sur une large gamme de températures allant de 100 degrés à 1000 degrés Celsius. De même, maintient un cycle thermique propre et précis pendant le processus de dépôt. En outre, son volume de chambre de procédé en quartz permet un traitement et un dépôt de films plus importants nécessaires pour les MEMS (systèmes microélectromécaniques) ainsi que pour d'autres applications. CENTURA est conçu pour des applications nécessitant un dépôt conforme de couches minces, y compris le nitrure de silicium, le silicium polycristallin et de nombreux autres films qui nécessitent des procédés de dépôt uniformes et reproductibles. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA permet une grande flexibilité en ce qui concerne les matériaux utilisés dans le processus de dépôt. Il peut être utilisé avec une variété de précurseurs, y compris ceux nécessaires pour le silicium, le germanium, le germanium-silicium, le plasma inductif couplé (PIC) et le dépôt en phase vapeur de métaux organiques à haute température (HTMOCVD). En outre, AMAT CENTURA supporte divers types de cycles de dépôt, tels que le dépôt chimique en phase vapeur thermique rapide à haute pression (FTCVD) et le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma à basse pression (PECVD). MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA est également équipé de multiples sources de rétroaction et de métrologie telles qu'une grande fenêtre à quartz, un pyromètre et un anémomètre à fil chaud. Ceux-ci permettent à l'utilisateur de surveiller et d'ajuster les paramètres de dépôt au besoin. CENTURA est disponible en plusieurs tailles pour répondre à des besoins industriels spécifiques. De plus, la configuration du réacteur est entièrement personnalisable, ce qui permet de répondre à des besoins spécifiques en matériaux. La fiabilité et la rentabilité d'AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA le rendent particulièrement attrayant pour l'industrie des semi-conducteurs.