Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9203384 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un type de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui est utilisé pour créer des couches minces de divers matériaux sur un substrat. L'équipement se compose d'une chambre principale, de parois de chambre et d'un suscepteur, qui maintient les plaquettes en place pendant le processus de dépôt. La chambre est équipée de deux capteurs qui contrôlent la pression à l'intérieur du réacteur. Les réacteurs peuvent également accueillir une gamme de précurseurs, tels que le silane, la phosphine et le trichlorure de bore, qui sont utilisés pour déposer les couches de matériau. Le système AMAT CENTURA est conçu pour offrir un contrôle et une surveillance complets des processus, ainsi que pour fournir un environnement propre. Les parois de la chambre sont réalisées en un matériau à haute teneur en nitrure de quartz qui contribue à réduire les dégazages et la diffusion lors du traitement, ce qui contribue à assurer une couche finie cohérente et de haute qualité. Les murs de la chambre ont plusieurs chicanes sur le haut et le bas et sont remplis d'azote pour aider à créer l'environnement idéal à l'intérieur. De plus, les parois et la porte de la chambre comportent une unité d'échappement pour assurer un écoulement continu de l'air vers la chambre, contribuant à réduire les impuretés ou les contaminants qui peuvent ternir la couche finale. Le suscepteur est également important dans le processus de dépôt et est généralement fixé sur un piédestal chauffé qui contribue à maintenir une température uniforme dans tout le substrat pendant le processus. Les plaquettes, qui sont revêtues d'une couche sacrificielle de matériaux tels que le nitrure de titane, sont chargées sur le suscepteur par l'intermédiaire d'un bras robot. Le bras robot est également chargé de positionner les plaquettes pendant le processus de dépôt et de les retirer une fois le processus terminé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les systèmes CENTURA sont conçus pour une gamme d'applications, permettant aux utilisateurs de produire des couches minces de métaux, de semi-conducteurs, d'isolants et de diélectriques. La machine est également capable de déposer des matériaux tels que l'arséniure de gallium, le phosphure d'indium et l'oxyde d'étain. Le processus de dépôt est entièrement clos, ce qui garantit que tous les contaminants ou impuretés ne seront pas introduits pendant le processus de dépôt, ce qui permet d'obtenir des couches de matériaux complètement propres et cohérentes. Enfin, l'outil a été conçu avec une interface conviviale et une gamme de fonctions de sécurité, ce qui le rend facile à utiliser et à entretenir.