Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9218563 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA (AMAT CENTURA) est une chambre de traitement spécialisée conçue pour des applications de gravure à haute température, de dépôt et d'ingénierie de surface. Utilisant des technologies de plasma de pointe, le réacteur APPLIED MATERIALS CENTURA peut être utilisé pour divers procédés de fabrication de plaquettes tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et l'implantation d'ions. Ce procédé tout-en-un est une solution efficace et rentable pour tous les fabricants, peu importe l'application ou la complexité. Le réacteur CENTURA est une technologie plasma de pointe qui utilise un champ de résonance cyclotron électronique (ECR). Ce CER fournit les conditions plasmatiques les plus élevées qui dépassent toute autre méthode de dépôt disponible, et est idéal pour des applications à des températures de processus élevées telles que le durcissement de l'époxy et des verres. La technologie sophistiquée de la source de plasma ECR permet d'ajuster facilement un large éventail de conditions et de paramètres de procédé pour maximiser le rendement et les performances du procédé. AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur CENTURA peut être utilisé pour déposer une grande variété de matériaux, notamment des oxydes, des nitrures et des oxynitrures. Il peut également être utilisé pour graver du silicium, des oxydes et des photorésistes, y compris des structures à haut rapport d'aspect. La conception unique de la chambre sur mesure du réacteur permet une production à haut débit, avec des vitesses de gravure et de dépôt plus rapides que les autres méthodes de traitement du plasma. Le réacteur AMAT CENTURA intègre également un système de chargement multizone unique, qui permet une flexibilité totale dans le chargement et le déchargement des plaquettes. Cela rend le système parfait pour une intégration serrée dans divers processus, et permet d'augmenter les temps de chargement et de déchargement des plaquettes. Les alimentations sont conçues pour fournir des niveaux de bruit ultra bas, et protéger contre les fluctuations au cours des opérations. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA est un outil avancé de traitement du plasma qui offre des performances inégalées en gravure, dépôt et applications à haute température. Il fournit un excellent contrôle de la température pour la stabilité du procédé, et est conçu pour un débit maximal. Avec son excellente alimentation à faible bruit, son système de chargement multizone supérieur et son champ d'induction ECR fiable, le réacteur CENTURA est un choix idéal pour tous vos besoins de traitement du plasma.